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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103382085A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103382085103382085A(43)申请公布日2013.11.06(21)申请号201310168897.4(22)申请日2013.05.09(71)申请人江苏亨通光纤科技有限公司地址215200江苏省苏州市吴江经济技术开发区亨通路100号申请人江苏亨通光电股份有限公司(72)发明人贺作为张良汪洪海袁健陈明郭浩林(74)专利代理机构北京中誉威圣知识产权代理有限公司11279代理人张相午(51)Int.Cl.C03B37/018(2006.01)C03B37/02(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图2页附图2页(54)发明名称一种低损耗光纤的制造方法(57)摘要本发明公开了一种低损耗光纤的制造方法,依次包括以下几个步骤:(A)通过设计确定纤芯的折射率;(B)用VAD工艺进行纤芯的沉积,对沉积好的松散体依次进行烧结,脱水和玻璃化,再拉制到预定的直径;(C)把内包层安装到外包层中,封好一端的端面,再把纤芯安装到内包层中,对纤芯进行固定,即完成光纤预制棒的制造;(D)把组装好的光纤预制棒安装在拉丝塔上,然后把光纤预制棒送进石墨拉丝炉,加热所述石墨拉丝炉,光纤预制棒熔化抽成光纤;(E)光纤依次通过测径仪,冷却管,涂覆杯,UV固化,到达主牵引装置,即完成了整个光纤的制造。此方法生产低损耗光纤简化了工艺,对设备的要求相对降低,极大的降低了生产成本。CN103382085ACN103825ACN103382085A权利要求书1/1页1.一种低损耗光纤的制造方法,其特征在于,依次包括以下几个步骤:(A)通过设计确定纤芯(1)的折射率;(B)用VAD工艺进行纤芯(1)的沉积,对沉积好的松散体依次进行烧结,脱水和玻璃化,再拉制到预定的直径;(C)把内包层(2)安装到外包层(3)中,封好一端的端面,再把纤芯(1)安装到内包层(2)中,对纤芯(1)进行固定,即完成光纤预制棒(4)的制造;其中,所述内包层为掺杂少量氟的玻璃管,所述外包层为纯二氧化硅的玻璃管;(D)把组装好的光纤预制棒(4)安装在拉丝塔上,然后把光纤预制棒(4)送进石墨拉丝炉(5),加热所述石墨拉丝炉(5),所述光纤预制棒(4)熔化被抽成直径为0.125mm的光纤(6);(E)所述光纤(6)依次通过测径仪(7),冷却管(8),涂覆杯(9),UV固化(10),到达主牵引装置(11),即完成了整个光纤的制造。2CN103382085A说明书1/3页一种低损耗光纤的制造方法技术领域[0001]本发明涉及一种低损耗光纤的制造方法,采用VAD工艺制造纤芯,利用预制好的包层,采用套管方法进行低损耗光纤的生产,该方法使得低损耗光纤生产更为简便。背景技术[0002]光纤损耗是限制光纤通信中继距离的瓶颈,为了减少通信光纤中由于损耗代理的限制,通常的做法是在中继中增加光纤放大器,这样方法可以在一定程度上解决损耗大带来的问题,但在一些环节条件限制的情况下,例如海面、沙漠等地带建立中继站难度大,同时成本又高,就带来很大的挑战。[0003]普通的光纤损耗1550nm窗口约为0.2dB/km,中继距离一般不超过80km,而低损耗光纤1550nm窗口约小于0.18dB/km,中继距离可以超过120km,采用低损耗光纤可以在通信线路上大幅减少中继站的建设,使得客户的最终成本得到有效的降低。[0004]美国康宁专利03823749.0介绍了一种掺杂有金属氧化物的方法进行低损耗光纤的生产,日本古河专利200610071962.4介绍了一种使用OVD和MCVD相结合的方法来生产低损耗光纤,这些方法都可以生产低损耗光纤,但工艺复杂,生产成本较高。发明内容[0005]针对现有技术存在的不足,本发明目的是提供一种工艺简单、生产成本低的低损耗光纤的制造方法。[0006]为了实现上述目的,本发明是通过如下的技术方案来实现:[0007]本发明依次包括以下几个步骤:[0008](A)通过设计确定纤芯的折射率;[0009](B)用VAD工艺进行纤芯的沉积,对沉积好的松散体依次进行烧结,脱水和玻璃化,再拉制到预定的直径;[0010](C)把内包层安装到外包层中,封好一端的端面,再把纤芯安装到内包层中,对纤芯进行固定,即完成光纤预制棒的制造;[0011]其中,所述内包层为掺杂少量氟的玻璃管,所述外包层为纯二氧化硅的玻璃管;[0012](D)把组装好的光纤预制棒安装在拉丝塔上,然后把光纤预制棒送进石墨拉丝炉,加热所述石墨拉丝炉,光纤预制棒熔化被抽成直径为0.125mm的光纤;[0013](E)所述光纤依次通过测径仪,冷却管,涂覆杯,UV固化,到达主牵引装置,即完成了整个光纤的制造