一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106746712A(43)申请公布日2017.05.31(21)申请号201611078104.X(22)申请日2016.11.30(71)申请人江苏奥蓝工程玻璃有限公司地址226011江苏省南通市港闸区通京大道370号(72)发明人黄林冲顾海波徐庆周京陈俊单志刚(74)专利代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204代理人柏尚春(51)Int.Cl.C03C17/22(2006.01)权利要求书1页说明书3页(54)发明名称一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片和镀膜层，其中镀膜层直接采用扩散系数很低的硅作为材料，且硅的价格较低，本发明不仅能够在不影响热反射效果的同时大大降低生产成本，也能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏，且保持了原有热工性能，同时将原片也进行了钢化处理，而且生产出来的镀膜玻璃具有很好的隔热功效，同时也能实现异地化后续深加工，且透光可以做到接近零，玻璃面反射在35左右。CN106746712ACN106746712A权利要求书1/1页1.一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。2.根据权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为3-15mm。3.根据权利要求2所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为6mm。4.根据权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述镀膜层硅的厚度为120-140nm。5.根据权利要求4所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述镀膜层硅的厚度为130nm。6.如权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤：(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为2m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为350-380KW，在玻璃基片上溅射一层120-140nm的硅，即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。7.根据权利要求6所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，其特征在于所述步骤(1)中玻璃基片的厚度选择6mm。8.根据权利要求6所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，其特征在于所述步骤(3)中高真空磁控溅射镀膜设备的功率为370KW。9.根据权利要求6所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，其特征在于所述步骤(3)中在玻璃基片上溅射的硅的厚度为130nm。2CN106746712A说明书1/3页一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及玻璃及其制备领域，尤其涉及一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法。背景技术[0002]现有普通离线热反射镀膜玻璃由于膜系配置均采用金属材料或金属氧化物材料，成本较高。离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃，直接采用硅Si膜层，目前硅Si的成本很低，而且硅Si的化学性质不活泼，有较好的稳定性，针孔密度非常低。磁控溅射沉积的硅Si膜层致密、平整且硬度很高，对可动离子有非常强的阻挡能力，在1200℃时不发生氧化，有较好的抗蚀性，所以，使用硅Si膜层生产的离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃，可以在降低成本的同时实现离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃耐高温的性能，从而实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工，且透光可以做到接近零，玻璃面反射在35左右。发明内容[0003]发明目的：为了克服现有技术中存在的离线可钢化镀膜玻璃成本较高的问题，本发明提出了一种大幅度降低离线可钢化镀膜玻璃成本，且具有零透光、高反热高反射性能的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法。[0004]技术方案：为了解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案为：一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。[0005]为了获得最佳的性能，所述玻璃基片的厚度为3-15mm。[0006]更进一步的，所述玻璃基片的厚度为6mm。[0007]作为本发明的进一步改进，所述镀膜层硅的厚度为120-140nm。[0008]更进一步的，所述镀膜层硅的厚度为130nm。[0009]本发明还提出了上述离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：[0010](1)选择3-