一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108439823A(43)申请公布日2018.08.24(21)申请号201810148713.0(22)申请日2018.02.13(71)申请人江苏奥蓝工程玻璃有限公司地址226000江苏省南通市崇川区通京大道370号1幢(72)发明人黄丽莎顾海波(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限公司44202代理人郝传鑫贾允(51)Int.Cl.C03C17/36(2006.01)权利要求书2页说明书5页(54)发明名称一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设于玻璃基片上，镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。本发明镀膜层沉积性好，镀膜层致密、厚度适中，平整度和硬度高，机械强度和耐化学侵蚀能力较高，辐射率低，不易划伤、擦伤，膜层在钢化炉中进行高温热处理时而不受损坏，清洗后抗氧化性稳定，能够保持原有性能。CN108439823ACN108439823A权利要求书1/2页1.一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，所述第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，所述第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，所述第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。2.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度为5-10mm。3.根据权利要求2所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度为8mm。4.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40-50nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为15-22nm，所述第一金属镍铬层的厚度为0.5-2nm。5.根据权利要求4所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为45nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第一金属镍铬层的厚度为1nm。6.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述金属银层的厚度为10-20nm。7.根据权利要求6所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述金属银层的厚度为14nm。8.一种可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、选择5-10mm厚度的玻璃基片，按预设尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；S2、将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa，线速度设置为2-4m/min；S3、将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第一氮化硅层；S4、设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为15-22nm的第一氧化锌铝层；S5、设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为0.5-2nm的第一金属镍铬层；S6、设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-4.5KW，在玻璃基片上溅射厚度为10-20nm的金属银层；S7、设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为0.5-2nm的第二金属镍铬层；S8、设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为15-22nm的第二氧化锌铝层；S9、设置第七高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第二氮化硅层；即得可钢化低辐射镀膜玻璃。9.根据权利要求8所述的可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述S1中选取8mm厚度的玻璃基片。10.根据权利要求8所述的可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述S3中2CN108439823A权利要求书2/2页第一氮化硅层的厚度为45nm，所述S4中第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述S5中第一金属镍铬层的厚度为1nm。3CN108439823A说明书1/5页一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法技术领域[0001]本发明属于玻璃及其制备技术领域，尤其涉及一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法。背景技术[0002]低辐射镀膜玻璃简称低辐射玻璃或LOW-E(LowEmissivityGlass)玻璃，是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其他化合物组成的膜系产品，因其所镀的膜