一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107459345A(43)申请公布日2017.12.12(21)申请号201710643390.8(22)申请日2017.07.31(71)申请人洛阳晶联光电材料有限责任公司地址471100河南省洛阳市洛阳空港产业集聚区隆华大道66号（洛阳市孟津县麻屯镇）(72)发明人陆映东武建良马超宁黄誓成(74)专利代理机构柳州市荣久专利商标事务所(普通合伙)45113代理人韦微(51)Int.Cl.C04B35/457(2006.01)C04B35/01(2006.01)C04B35/622(2006.01)C04B35/64(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法(57)摘要本发明涉及一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，包括以下步骤：㈠成型横截面为椭圆形的管状氧化铟锡靶材素坯；㈡在烧结炉的承烧板上，摆放二排挡块，二排挡块的间距比椭圆形氧化铟锡靶材素坯的外椭圆短轴大20～100mm；㈢将成型好的氧化铟锡靶材素坯平躺放在二排挡块之间，氧化铟锡靶材素坯的椭圆形长轴与承烧板垂直，然后在氧化铟锡靶材素坯两侧与挡块之间填充氧化铝砂，最后开始升温脱脂和烧结，得到氧化铟锡旋转靶材。该方法采用平躺烧结，可使旋转靶材的长度不受限于烧结炉高度，而是受限于烧结炉长度，并且采用椭圆形的素坯结构，能够抵消大部分的烧结变形，烧结变形量小，适合批量生产长尺寸的氧化铟锡旋转靶材。CN107459345ACN107459345A权利要求书1/1页1.一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，其特征在于：包括以下步骤：㈠成型横截面为椭圆形的管状氧化铟锡靶材素坯（1）；㈡在烧结炉的承烧板上，摆放二排挡块（2），二排挡块的间距比上述椭圆形氧化铟锡靶材素坯的外椭圆短轴大20～100mm；㈢将步骤㈠成型好的氧化铟锡靶材素坯平躺放在二排挡块之间，氧化铟锡靶材素坯的椭圆形长轴与承烧板垂直，然后在氧化铟锡靶材素坯两侧与挡块之间填充氧化铝砂（3），最后开始升温脱脂和烧结，烧结完成后即得氧化铟锡旋转靶材。2.根据权利要求1所述的一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，其特征在于：步骤㈠中椭圆形的氧化铟锡靶材素坯的长轴与短轴的比例为1.1～1.3。3.根据权利要求1或2所述的一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，其特征在于：步骤㈢中填充氧化铝砂的高度为氧化铟锡靶材素坯外椭圆长轴的1/4～1/3。4.根据权利要求1或2所述的一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，其特征在于：步骤㈢中填充的氧化铝砂的纯度≥99.95%。5.根据权利要求1或2所述的一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，其特征在于：步骤㈠中是采用注浆成型或冷等静压成型的成型方式成型氧化铟锡靶材素坯。2CN107459345A说明书1/3页一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法技术领域[0001]本发明涉及一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法。背景技术[0002]氧化铟锡靶材是磁控溅射镀制氧化铟锡薄膜溅射源，是氧化铟锡薄膜的原材料。氧化铟锡薄膜是一种透明导电薄膜，主要用于制作透明电极，广泛应用于平面显示器、触摸屏等领域。目前应用较多的是氧化铟锡平面靶材，氧化铟锡平面靶材利用率低，在35%以下。氧化铟锡旋转靶材是管状的，由于利用率高，在50-80%之间，已经开始在中低端的氧化铟锡薄膜产品中广泛应用。[0003]目前公开的旋转靶材制作相关的文献和专利技术中，大多以成型方法和烧结温度制程为主，少有涉及烧结摆放方式的。目前行业内主要的摆放方式是立式摆放，这种摆放方法是将管状的素坯竖直放在烧结炉承烧板上，可烧结靶材的长度取决于烧结炉的高度。而通常用于烧结靶材的烧结炉，炉膛高度是远小于炉膛长度的，故目前制备的旋转靶材长度较短，一般在500mm以下，当客户需要长尺寸靶材时，采用拼接的方式制备。拼接方式制备得到的氧化铟锡旋转靶材，不仅制备工序中需要另外增加拼接的工序，而且与一体成型烧结工艺相比其质量更难保证，故需要研发一种能够烧结长尺寸氧化铟锡旋转靶材的方法。发明内容[0004]本发明要解决的技术问题是：提供一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，该方法采用平躺烧结，可使旋转靶材的长度不受限于烧结炉高度，而是受限于烧结炉长度，且采用椭圆形的素坯结构，能够抵消大部分的烧结变形，烧结变形量小，适合批量生产长尺寸的氧化铟锡旋转靶材。[0005]解决上述技术问题的技术方案是：一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法，包括以下步骤：㈠成型横截面为椭圆形的管状氧化铟锡靶材素坯；㈡在烧结炉的承烧板上，摆放二排挡块，二排挡块的间距比上述椭圆形氧化铟锡靶材素坯的外椭圆短轴大20～100mm；㈢将步骤㈠成型好的氧化铟锡靶材素坯平躺放在二排挡块之间，氧化铟锡靶材素坯的椭圆形长轴与承烧板垂直，然后在氧化铟锡靶材