预览加载中，请您耐心等待几秒...

一种溅射后氧化铟锡靶材的再生方法.pdf

预览
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10

在线预览结束，喜欢就下载吧，查找使用更方便

下载提示 文本预览

如果您无法下载资料，请参考说明：

1、部分资料下载需要金币，请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档，再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压，在使用对应软件打开

本发明涉及一种溅射后氧化铟锡靶材的再生方法,所述再生方法包括如下步骤:(1)对溅射后氧化铟锡靶材的溅射面依次进行抛光处理和槽加工,之后进行装粉,得到中间件;(2)对步骤(1)得到的中间件依次进行冷等静压、包套处理和热等静压处理,得到再生氧化铟锡靶材。本发明提供的再生方法,通过采用特定的处理过程,采用特定的机加工和等静压处理过程的设计,实现了使用后氧化铟锡的高效回收利用,制备所得氧化铟锡靶材具有良好的性能,致密性能高,晶粒小,电阻率低,采用制备所得靶材进行镀膜后镀膜的均匀性显著提升。