等离子处理物料装置及处理方法.pdf
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相关资料
等离子处理物料装置及处理方法.pdf
本发明公开了一种等离子处理物料装置及处理方法,等离子处理物料装置包括:炉体,炉体内限定出用于盛放固态物料的盛放空间;等离子枪,等离子枪伸入炉体内以在炉体内产生非转移型等离子弧以熔化固态物料,固态物料在熔融状态下导电;支撑部,支撑部与等离子枪的阳极部分电连接;连接件,连接件具有导电性且连接件的熔点高于固态物料的熔点,连接件的一端伸入固态物料内,连接件的另一端与支撑部固定连接。本发明的等离子处理物料装置,等离子枪可产生联合型等离子弧,进而可提高等离子弧对固态物料的加热效率,提高等离子处理物料装置的工作效率,降
等离子处理装置以及等离子处理方法.pdf
使成品率得以提升的等离子处理装置具备:配置于真空容器内部且在内侧形成等离子的处理室;配置于该处理室内且在上表面搁放处理对象的晶片的样品台;配置于该样品台内部的具有圆板或圆筒形状的金属制的基材;在该基材的内部绕着其中心同心状多重配置并在内侧流通调节成预先确定的温度的冷媒的冷媒流路;配置于该冷媒流路与所述基材的上表面之间并探测温度的至少1个温度传感器;和使用来自该温度传感器的输出来检测所述基材或搁放于所述样品台上的处理中的所述晶片的温度的控制器。所述控制器在将根据所述温度传感器的输出得到的温度与实际的所述基材
等离子处理装置以及等离子处理方法.pdf
为了提供使晶片的处理的成品率得到提升的等离子处理装置或等离子处理方法,具备:处理室,其配置于真空容器内部,在内侧配置处理对象的晶片并形成等离子;具有圆筒形的样品台,其配置于该处理室内,在上表面载置所述晶片;多个加热器,其配置于所述样品台的内部,配置于包含关于从中心向外周侧的径向在多个半径上绕着所述中心同心状配置的圆形的区域以及包围其外周的环状的区域的3个以上径向的区域的每一个区域,包含配置于至少1个所述环状的区域的关于绕着所述中心的周向而划分的多个圆弧状的区域的每一个区域的加热器;多个温度传感器,其配置于
水泥物料处理装置和水泥物料处理方法.pdf
本发明涉及一种水泥物料处理装置及方法,该装置包括:预分解部,适于对水泥生料执行预分解处理;预烧成部,适于对水泥物料进行预烧成处理,预烧成部包括循环出口,预分解部的物料出口与预烧成部的物料入口相通;烧成部,适于对来自预烧成部的水泥物料进行烧成处理;分离器,分离器的物料出口与预分解部的物料入口相通,分离器的物料入口与循环出口相通,其中:预烧成部包括流化床形式的预烧成炉,循环出口高于预烧成部的物料入口;所述装置包括循环回路,所述循环回路包括顺次布置的预分解部、预烧成部、循环出口和分离器。
等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置.pdf
本发明提供使等离子液的氧化能力安全地降低的等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置。该等离子液处理方法使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触(S24),将使等离子液与对象物接触后残留的残留等离子液与水混合(S26)。