一种化学气相沉积制备镍薄膜、碳化镍薄膜的设备及其方法.pdf
念珊****写意
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本发明涉及一种化学气相沉积制备镍薄膜、碳化镍薄膜的设备及其方法。为了解决已有镍薄膜、碳化镍薄膜制备方法存在的工艺流程复杂、薄膜粒子尺寸与形貌难以调控、三维基材台阶覆盖率差的不足,本发明的制备镍薄膜、碳化镍薄膜的方法,在该方法中,使用加热装置对镍单体瓶进行加热,将镍单体挥发为气体,气态镍与载气混合后通入沉积腔中,使用加热炉对沉积腔室进行加热,气态的镍单体在基材表面发生热分解反应生成镍薄膜、碳化镍薄膜与可挥发的副产物,镍薄膜、碳化镍薄膜沉积在基础表面,即得到镍薄膜、碳化镍薄膜。本发明方法相比于其他镍、碳化镍薄
一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法.pdf
本发明公开了一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法,包括有载气瓶、氢气瓶、AMD‑Ni单体瓶、DAD‑Ni单体瓶、加热炉、机械泵和射频电源,将AMD‑Ni单体瓶和DAD‑Ni单体瓶放在加热套内,加热套内壁缠上加热带,在加热炉内设有反应腔,反应腔内放有基片台,基片台内置有热电偶,所述的载气瓶的出气口分别连接质量流量控制器一、流量控制器二、流量控制器三,流量控制器一的出口依次连接ALD阀一和AMD‑Ni单体瓶的进口,流量控制器二的出口依次连接ALD阀二和DAD‑Ni单体瓶的进口、流量控制器三的出口依
一种化学气相沉积法制备镍带材的方法.pdf
本发明公开了一种化学气相沉积法制备镍带材的方法,使用热解炉对带状镍基材进行加热,将液态羰基镍经汽化器汽化,气态羰基镍与CO气体混合后通入热解炉中,气态羰基镍在带状镍基材表面生成镍和CO气体,镍沉积在带状镍基材表面,即得到镍带材。本发明的化学气相沉积法制备镍带材的方法,具有工艺周期短的优点,操作简单,且能耗低。
一种化学气相沉积制备原子级硼薄膜的方法.pdf
本发明公开了一种化学气相沉积制备原子级硼薄膜的方法,包括以下步骤:将基底置于真空反应炉中,在还原性气体气氛中,升温至400~1100℃,再通入硼源气体,同时保持还原性气体流量1~200sccm,1~240min后即在基底上获得沉积硼薄膜。本发明采用化学气相沉积法,在金属基底或外延基底上通过加热分解固体硼源或高温裂解硼烷获得硼源气体,或者直接通入气体硼源,沉积得到原子级硼薄膜,从而提供了一种制备大面积硼薄膜的方法。本方法得到的原子级硼薄膜可应用于多个技术领域,包括晶体管器件、传感器和制动器。
【精选】薄膜的化学气相沉积II.ppt
第四章薄膜的化学气相沉积(Chemicalvapordeposition)第一节化学气相沉积反应的类型第二节化学气相沉积过程的热力学第三节气体的输运特性第四节化学气相沉积装置第五节Sol—Gel工艺技术简介应用范围包括:可以用于各种高纯晶态、非晶态的金属、半导体、化合物薄膜的制备;可以有效地控制薄膜的化学成分;低的设备和运转成本;与其他相关工艺具有较好的相容性等。第一节化学气相沉积所涉及的化学反应类型一、热解反应(thermaldecompo