一种增强单多晶硅电池片表面钝化提高开路电压的工艺.pdf
山柳****魔王
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一种增强单多晶硅电池片表面钝化提高开路电压的工艺,工艺流程步骤为:制绒→扩散→刻蚀→氧化→PECVD→丝网印刷→烧结→分选→测试;本发明提出一种增强单多晶硅电池片表面钝化作用提高开路电压的工艺,在高温下,向石英炉管内通入氧气在硅片表面形成一层具有一定厚度、致密性及均匀性的二氧化硅层,这层氧化层对硅片表面有着很好的钝化作用,阻挡金属离子向硅中扩散,限制带电载流子的运动,硅片的开路电压提高2~5mv,将转换效率提高0.03‑0.05%,提高了单多晶电池片的成品率;氧化工序成熟简单,容易实施,可以利用现有的扩散
一种提高多晶硅开路电压的新型扩散工艺.pdf
本发明公开了一种提高多晶硅开路电压的新型扩散工艺,1)第一步,将硅片放入扩散炉中,升温到800℃;2)通源:在该温度向扩散炉管中通入通入流量比为3:1:17的扩散氮气、氧气和吹扫氮气,整个过程是10-25分钟;3)升温推结:用10-25分钟将扩散炉管内温度升至850-860℃,整个升温过程中持续向扩散炉管中通入流量比为10:3的吹扫氮气和氧气;4)用10-25分钟将扩散炉管内温度降至750℃-800℃,整个降温过程中持续向扩散炉管中通入吹扫氮气;5)取出硅片。本发明可以降低硅片的表面复合速度,增加结深,减
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