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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109467064A(43)申请公布日2019.03.15(21)申请号201710799396.4(22)申请日2017.09.07(71)申请人河北高富氮化硅材料有限公司地址054300河北省邢台市临城经济开发区中兴大街北段路西(72)发明人张红冉刘久明(51)Int.Cl.C01B21/072(2006.01)C08K3/28(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法(57)摘要本发明涉及无机非金属粉体制备技术领域,具体涉及一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法。具体步骤为:将铝粉、稀释剂按一定的比例混合均匀,与少量添加剂放入石墨方舟中在真空烧结炉中进行氮化反应,氮化温度为800~1500℃。完全氮化的氮化铝粉末进行压制成型,再进行高温处理来优化形貌,得到致密形貌的氮化铝粉体。大粒径、颗粒致密的氮化铝粉体,作为填料能显著提高导热胶、导热硅脂等的导热系数,在大功率器件、电路基板、LED散热、产热器等散热领域具有巨大的应用前景。CN109467064ACN109467064A权利要求书1/1页1.一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征包括以下步骤:(1)混料:将铝粉、稀释剂按一定的比例混合均匀;(2)氮化反应:将上述混合原料与少量添加剂放入石墨方舟中,置于真空烧结炉中,通入氮气在800~1500℃温度下保温0.5~5h进行氮化反应;(3)高温处理:将上述完全氮化的氮化铝粉末压制成型,再进行高温处理来优化形貌,得到致密形貌的氮化铝粉体。2.根据权利要求1所述的一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中稀释剂为AlN粉体,占铝粉质量的0~50%。3.根据权利要求1所述的一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中混料方式为干混。4.根据权利要求1所述的一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中添加剂优选NH4Cl,添加量为Al+AlN总质量的1~20%。5.根据权利要求1所述的一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中氮化铝粉末成型压力为50~200MPa。6.根据权利要求1所述的一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中高温处理温度为1550~2000℃,整个过程中始终在氮气保护气氛下进行。7.根据权利要求1所述的一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中所得致密形貌氮化铝球磨后中位径为3~15μm,形貌为致密颗粒状。2CN109467064A说明书1/2页一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法技术领域[0001]本发明属于无机非金属粉体制备技术领域,具体涉及一种致密形貌氮化铝粉体的制备方法。背景技术[0002]随着电子产品逐步趋于微型化、高密度化、高性能化,其工作环境温度也趋于高温方向发展。资料显示电子元器件温度每升高2℃,其可靠性就下降10%,因此散热问题是高集成度电子器件的关键因素之一。普通的硅胶等导热性较差,一般仅0.2W/m·K左右。将高导热填料填充到有机高分子导热胶中,是提高硅胶导热率的一种经济而有效的方式。为了保证导热胶的绝缘性能,一般采用金属氧化物或金属氮化物作为导热填料。Al2O3是最常见的导热填料,但其对导热胶的导热率提高有限,已经无法满足密度集成的要求。BN价格较贵,成本较高,不适合工业化生产。而AlN的理论导热率可达320W/m·K,是Al2O3的近10倍,实际导热系数也可是Al2O3的5~8倍。此外AlN具有优良的绝缘性、低的热膨胀系数、高的机械强度、无毒等优点,是导热胶用高导热填料的首选材料。[0003]作为填料的AlN粉体,一般要求粒径在4~30μm之间,形貌为类球形或致密颗粒状形貌。铝粉直接氮化法是工业制备氮化铝粉体一种常见的方法,但此法存在一定的缺点就是产率低、粉体易团聚结块等。这是由于氮化反应温度大于铝粉的熔点,且铝粉氮化反应为放热反应,放出的热量极易使铝粉颗粒融化,从而阻碍氮气的扩散造成反应不完全。同时,铝粉颗粒表面氮化后形成的氮化层也会阻止氮气向颗粒中心扩散。一般加入NH4Cl和KCl作为添加剂,可有效促进铝粉的完全氮化。但NH4Cl的加入易形成疏松多孔、针状等形貌,这些形貌的粉体作为导热填料不易形成有效的导热网链,影响成品的导热率甚至影响导热胶的制备工艺。发明内容[0004]本发明为解决上述技术难题,采用二次热处理的方式获得致密形貌的氮化铝粉体。具体的步骤为:(1)混料:将铝粉、稀释剂按一定的比例混合均匀;(2)氮化反应:将上述混合原料与少量添加剂放入石墨方舟中,置于真空烧结炉中,通入氮气在800~1500℃温度下保温0.5~5h进行氮化反应;(3