一种均匀镀膜的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111394698A(43)申请公布日2020.07.10(21)申请号202010372848.2(22)申请日2020.05.06(71)申请人贵州省高新光电材料及器件研究院有限公司地址550000贵州省贵阳市贵阳国家高新技术产业开发区长岭南路留学归国人才创业园别墅C2栋(72)发明人季泳张龚磊(74)专利代理机构贵州派腾知识产权代理有限公司52114代理人宋妍丽(51)Int.Cl.C23C14/24(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书2页(54)发明名称一种均匀镀膜的方法(57)摘要本发明提供的一种均匀镀膜的方法，在真空炉腔中的旋转装置上安装有工件盘，在往复运动装置上安装蒸发源、使得蒸发源可垂直于工件盘旋转轴线的延长线径向移动，往复运动装置固定于炉腔；将产品固定在工件盘上后，在旋转装置带动工件盘转动的同时，往复运动装置带动蒸发源做径向往复运动，从而完成对产品的镀膜。本发明可以较好的避免修正挡板和行星工件盘的缺陷，通过结合光学精密单面抛光的摆动理论，来达到较好的镀膜均匀性。CN111394698ACN111394698A权利要求书1/1页1.一种均匀镀膜的方法，其特征在于：在真空炉腔中的旋转装置上安装有工件盘，在往复运动装置上安装蒸发源、使得蒸发源可垂直于工件盘旋转轴线的延长线做径向移动，往复运动装置固定于炉腔；将产品固定在工件盘上后，在旋转装置带动工件盘转动的同时，往复运动装置带动蒸发源做径向往复运动，从而完成对产品的镀膜。2.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述工件盘旋转速度为3～1000RPM。3.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：通过调整所述旋转装置的转动速率、往复运动装置的移动速度、往复运动装置的移动频率，来调整膜层的均匀性。4.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述工件盘上固定产品的一面，为平面、球面或抛物面。5.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述蒸发源为电子枪、热蒸发器或镀膜靶材。6.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：蒸发源在往复运动装置上是沿轨道运动。7.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述工件盘为匀速运动。8.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述蒸发源和往复运动装置的数量均为一个或一个以上，且蒸发源和往复运动装置一一对应。2CN111394698A说明书1/2页一种均匀镀膜的方法技术领域[0001]本发明涉及一种均匀镀膜的方法。背景技术[0002]镀膜是通过物理或者化学的方法，在产品的表面形成一层薄膜，来改善产品表面的光学，力学，机械等性能，在人类工作生活中有广泛的应用。镀膜的主要方法有物理沉积和化学沉积，包括热蒸发、电子枪、溅射等方式。对于镀膜的技术指标一般包括：厚度、吸收率、反射率、透过率、偏振性能、颜色、牢固度、摩擦系数、强度、水滴角等等。镀膜的均匀性要求是为了确保整炉产品镀膜过程中的稳定性和一致性。一般来说，均匀性调试是镀膜生产调试中必不可少的一项技术。目前来说，控制镀膜均匀性的方式主要有以下两种：1.修正挡板，通过调整修正挡板的形状和位置来对过厚的位置进行遮挡，对过薄的位置进行补偿；2.行星工件盘，这种方式是通过工件的公转和自转，通过调整公转和自转的比例，来保证产品的均匀性。以上主要的方式各有利弊，修正挡板的方式是比较简洁，成本较低，精度尚可，但是由于炉腔清洁的需求，可能会影响修正挡板的安装位置的一致性，另外还有修正挡板变形的可能性，导致均匀性的改变。行星工件盘，精度较高，成本较高，维护费用较高，产品形态较固定，技术要求高，监控难度高。还有一些技术可以作为提高均匀性的辅助手段，例如调整膜料的发射角度，保持抽气的稳定，气体的分布均匀，加热温度的均匀，增加膜料的发射面等手段，来提高产品的镀膜均匀性。这些一般是作为上述两种主要手段的辅助技术可以和以上两种混合使用，用来调高镀膜的均匀性。[0003]但整体来说，上述方式各有优缺点，实践中操作利弊明显，不是一个最佳的方式。发明内容[0004]为解决上述技术问题，本发明提供了一种均匀镀膜的方法，该均匀镀膜的方法通过产品旋转、蒸发源往复操作的方式，能以极简单且成本相对低廉的方式完成镀膜操作。[0005]本发明通过以下技术方案得以实现。[0006]本发明提供的一种均匀镀膜的方法；在真空炉腔中的旋转装置上安装有工件盘，在往复运动装置上安装蒸发源、使得蒸发源可垂直于工件盘旋转轴线的延长线径向移动，往复运动装置固定于炉腔；将产品固定在工件盘上后，在旋转装置带动工件盘转动的同时，往复运动装置带动蒸发源做径向往复运动，从而完成对产品的镀膜。[0007]所述工件盘旋