一种镀膜装置及镀膜方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107937869A(43)申请公布日2018.04.20(21)申请号201610889517.X(22)申请日2016.10.12(71)申请人上海和辉光电有限公司地址201506上海市金山区金山工业区九工路1568号(72)发明人卢佳毅(74)专利代理机构上海申新律师事务所31272代理人俞涤炯(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/12(2006.01)C23C14/24(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称一种镀膜装置及镀膜方法(57)摘要本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种适用于显示装置的柔性基板镀膜装置及镀膜方法，该镀膜装置包括滚轮，设置于真空腔室中，所述柔性基板缠绕于所述滚轮表面上，所述滚轮带动所述柔性基板旋转；线性蒸镀源，固定设置于所述真空腔室中；且所述柔性基板上设置有待蒸镀区域，所述线形蒸镀源的喷口位于所述柔性基板的所述待蒸镀区域的正下方。该镀膜方法通过将基板揉成滚轮状覆盖在滚轮表面上，滚轮旋转时便可以让基板均匀地镀上有机材料。本发明通过点状的掩膜板设计加上滚轮旋转，便可以让有机材镀成线状，简化了掩模板设计和蒸镀的生产流程。CN107937869ACN107937869A权利要求书1/1页1.一种镀膜装置，适用于显示装置的柔性基板，其特征在于，所述镀膜装置包括：滚轮，设置于真空腔室中，所述柔性基板缠绕于所述滚轮的表面上，所述滚轮带动所述柔性基板旋转；以及线性蒸镀源，固定设置于所述真空腔室中，所述线形蒸镀源具有喷口；其中，所述柔性基板上设置有待蒸镀区域，所述线性蒸镀源的喷口设置于所述柔性基板的所述待蒸镀区域的正下方。2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，还包括掩膜板，所述掩膜板设置于所述柔性基板与所述线性蒸镀源之间；其中，所述掩膜板包括设置于所述柔性基板的所述待蒸镀区域正下方掩膜网，以及位于所述掩膜网两侧用以支撑所述掩膜网的固定机构。3.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述固定机构放置于所述真空腔室的固定平台上，所述固定平台位于所述滚轮两侧，以支撑所述掩膜网位于所述柔性基板待蒸镀区域的正下方。4.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述掩膜网上开设有点状的掩膜图案，且所述点状的掩膜图案与所述柔性基板上所述待蒸镀区域的待蒸镀图形的单元图案吻合。5.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述固定机构与所述掩膜网接合处设置有滚轮球，所述柔性基板贴压于所述滚轮球上，以使所述待蒸镀区域位于两个所述滚轮球之间的所述掩膜网上方；其中，所述柔性基板与所述掩膜网之间的间隙等于所述滚轮球的直径。6.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述滚轮的表面面积大于等于所述柔性基板的面积。7.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述滚轮表面均匀设置有微孔吸嘴，以将所述柔性基板吸附于所述滚轮的表面上。8.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述柔性基板通过钉子或螺丝固定于所述滚轮的表面上。9.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述柔性基板通过黏胶黏附于所述滚轮的表面上。10.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述真空腔室包括若干镀膜腔室，且相邻两个镀膜腔室之间通过阀门连通。11.一种镀膜方法，适用于显示装置的柔性基板，其特征在于，所述镀膜方法包括：提供一柔性基板，并将所述柔性基板缠绕于设置在真空腔室中的滚轮的表面上；转动所述滚轮的转轴，以带动所述柔性基板旋转；以及开启设置在所述真空腔室中且位于所述柔性基板正下方的线性蒸镀源，以在所述柔性基板的待蒸镀区域蒸镀像素材料。12.如权利要求11所述的镀膜方法，其特征在于，所述真空腔室包括若干镀膜腔室，所述滚轮通过转轴传送，带动所述柔性基板在不同的镀膜腔室中蒸镀不同的像素材料。2CN107937869A说明书1/4页一种镀膜装置及镀膜方法技术领域[0001]本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种适用于显示装置的柔性基板的镀膜装置及镀膜方法。背景技术[0002]目前蒸镀镀膜方式都是基板平放，然后以蒸镀源移动镀膜。参照图1，基板11放置于一基座10上，通过蒸镀源12移动，在基板11上蒸镀膜层。这种方法让机台非常庞大及占用空间，不适合用在大尺寸的基板。除此之外，镀膜的金属掩模网的像素也被张网的能力局限（网孔占用面积比例限制），而制作高分辨率的金属掩模网的难度高，使得制造更高分辨率产品难度更加提升。发明内容[0003]鉴于上述技术问题，因现行的OLED技术均以柔性基板为主，本发明提供一种适用于显示装置的柔性基板的镀膜装置及镀膜方法，可以节省镀膜机台空间，且有效蒸镀高分辨率像素材料到柔性基板上。[0