一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112376027A(43)申请公布日2021.02.19(21)申请号202011269231.4(22)申请日2020.11.13(71)申请人无锡华鑫检测技术有限公司地址214100江苏省无锡市惠山经济开发区堰新路311号1号楼0118室(72)发明人屈晓兰李璐黄孟琼(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/58(2006.01)C01B32/198(2017.01)C23C14/02(2006.01)C23C14/18(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法(57)摘要本发明提出一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，所述方法包括如下：1)在玻璃基底上均匀的涂敷氧化石墨烯浆料，在低温环境下干燥形成氧化石墨烯薄膜；2)将形成氧化石墨烯薄膜的玻璃基底放入等离子刻蚀机，对氧化石墨烯薄膜进行氧等离子体刻蚀；3)将经过等离子体刻蚀后的氧化石墨烯薄膜从玻璃基底上取下，置于磁控溅射炉中，选择特定的金属靶材，在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射，得到氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜；4)将得到的氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜，置于水中浸泡一段时间后，超声分散，得到氧化石墨烯金属纳米片分散液；5)将得到的氧化石墨烯金属纳米片分散液冷冻干燥后得到氧化石墨烯金属纳米片复合材料。CN112376027ACN112376027A权利要求书1/1页1.一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下：1)在玻璃基底上均匀的涂敷氧化石墨烯浆料，在一定环境温度下干燥形成氧化石墨烯薄膜；2)将步骤1)形成的氧化石墨烯薄膜的玻璃基底放入等离子刻蚀机，对氧化石墨烯薄膜进行氧等离子体刻蚀，增加氧化石墨烯薄膜表面的活性；3)将步骤2)经过等离子体刻蚀后的氧化石墨烯薄膜从玻璃基底上取下，置于磁控溅射炉中，选择特定的金属靶材，在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射，得到氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜；4)将步骤3)得到的氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜，置于水中浸泡一段时间后，超声分散，得到氧化石墨烯金属纳米片分散液；5)将步骤4)得到的氧化石墨烯金属纳米片分散液冷冻干燥后得到氧化石墨烯金属纳米片复合材料。2.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述方法还包括控制在玻璃基底上形成是氧化石墨烯薄膜的厚度以及在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射的时间，来控制氧化石墨烯金属纳米片复合材料的成分比。3.根据权利要求1或者2所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述形成的氧化石墨烯膜厚度为1～10微米。4.根据权利要求1或者2所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射的时间为10～900秒。5.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述氧等离子体刻蚀时间为10～60秒。6.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述金属靶材为金、银、铝、铜、铁、锌、铬、镍、钴、铂、钯、铱、铑、钌、钛、钒、镁、铟、镧、铟、锑中的一种或多种。7.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯由Brodie法、Staudenmaier法或者hummers法制备获取。8.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯浆料干燥形成氧化石墨烯薄膜的环境温度不超过80℃。9.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜于水中浸泡时间为1-5小时，超声分散时间为10-60分钟。10.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯金属纳米片分散液使用冻干机托盘进行冷冻干燥，时间为10-48小时。2CN112376027A说明书1/3页一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法技术领域[0001]本发明属于石墨烯复合材料制备领域，具体涉及一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法。背景技术[0002]石墨烯(Graphene)是一种以sp2杂化连接的碳原子紧密堆积成单层二维蜂窝状晶格结构的新材料[1]。石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性，在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景，被认为是一种未来革命性的材料。而氧化石墨烯是石墨烯的氧化物，其颜色为棕黄色，其上含氧官能团增多而使性质较石墨烯更加活泼，可与多种高分子材料制备形成