一种立式氧化炉摆动炉门装置及立式氧化炉.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112944914A(43)申请公布日2021.06.11(21)申请号202110136008.0(22)申请日2021.02.01(71)申请人中国电子科技集团公司第四十八研究所地址410111湖南省长沙市天心区新开铺路1025号(72)发明人曾裕民邓斌王学仕(74)专利代理机构湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008代理人徐好(51)Int.Cl.F27D1/18(2006.01)H01L21/67(2006.01)C30B33/00(2006.01)C30B33/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称一种立式氧化炉摆动炉门装置及立式氧化炉(57)摘要本发明公开了一种立式氧化炉摆动炉门装置，包括炉门组件以及安装座，所述安装座上设有升降机构，所述升降机构上设有旋转机构，所述旋转机构的轴心沿竖向布置，所述炉门组件与所述旋转机构之间连接有摆臂组件。本发明进一步公开了一种立式氧化炉，包括机架，还包括上述的立式氧化炉摆动炉门装置，所述安装座设于所述机架上。本发明具有使用方便，有利于炉膛保温，防止炉膛热量散发影响其他零部件等优点。CN112944914ACN112944914A权利要求书1/1页1.一种立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：包括炉门组件(1)以及安装座(2)，所述安装座(2)上设有升降机构(3)，所述升降机构(3)上设有旋转机构(4)，所述旋转机构(4)的轴心沿竖向布置，所述炉门组件(1)与所述旋转机构(4)之间连接有摆臂组件(5)。2.根据权利要求1所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述升降机构(3)包括升降驱动件(31)、升降导向件(32)、以及与升降驱动件(31)相连的升降基座(33)，所述旋转机构(4)设于所述升降基座(33)上；优选的，所述升降基座(33)配设有位置可调的上限位件(35)和下限位件(36)。3.根据权利要求2所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述升降驱动件(31)为升降气缸，所述升降气缸的活塞杆与所述安装座(2)固定连接，升降气缸的缸体与所述升降基座(33)固定连接，所述升降导向件(32)为设于安装座(2)上的导向轴，所述升降基座(33)上设有与所述导向轴配合的直线轴承(34)。4.根据权利要求1所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述旋转机构(4)包括轴心沿竖向布置的安装轴(41)、套设于安装轴(41)上的旋转座(42)、以及与旋转座(42)相连的旋转驱动组件(43)，所述安装轴(41)和旋转驱动组件(43)设于所述升降机构(3)上，所述摆臂组件(5)与所述旋转座(42)固定连接；优选的，所述旋转座(42)的初始位置和最终位置均配设有到位检测开关(47)。5.根据权利要求4所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述安装轴(41)两端与旋转座(42)之间设有推力球轴承(44)，两所述推力球轴承(44)之间设有深沟球轴承(45)。6.根据权利要求4所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述旋转驱动组件(43)包括旋转气缸(431)，所述旋转座(42)上设有连接板(46)，所述旋转气缸(431)的缸体与升降机构(3)铰接，旋转气缸(431)的活塞杆与所述连接板(46)铰接。7.根据权利要求1至6中任一项所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述摆臂组件(5)包括与炉门组件(1)相连的第一连接臂(51)、与旋转机构(4)相连的第二连接臂(52)、水平布置的维修轴(53)以及紧固件(54)，所述第一连接臂(51)与第二连接臂(52)之间通过所述维修轴(53)铰接、并通过所述紧固件(54)固定连接。8.根据权利要求7所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述炉门组件(1)包括水冷法兰(11)，所述水冷法兰(11)连接有输水硬管(12)，所述输水硬管(12)连接有输水软管(13)。9.根据权利要求1至6中任一项所述的立式氧化炉摆动炉门装置，其特征在于：所述炉门组件(1)包括水冷法兰(11)、位于水冷法兰(11)上侧的石英隔热板(14)、以及位于水冷法兰(11)下侧的炉门基座(15)，所述水冷法兰(11)与所述炉门基座(15)之间设有弹性缓冲件(16)，所述炉门基座(15)与所述摆臂组件(5)相连。10.一种立式氧化炉，包括机架，其特征在于：还包括权利要求1至9中任一项所述的立式氧化炉摆动炉门装置，所述安装座(2)设于所述机架上。2CN112944914A说明书1/4页一种立式氧化炉摆动炉门装置及立式氧化炉技术领域[0001]本发明涉及半导体行业的晶圆处理设备，尤其涉及一种立式氧化炉摆动炉门装置及立式氧化炉。背景技术[0002]信息产业的蓬勃发展极大的带动了集成