直拉硅单晶的掺杂装置及方法.pdf
一吃****春艳
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直拉硅单晶的掺杂装置及方法.pdf
一种用于直拉硅单晶的掺杂装置及方法,属于直拉法生产单晶硅设备技术领域,包括石英内胆、石英钟罩和石英杯,在石英钟罩内设置石英内胆,石英杯内置于石英内胆,在内胆本体的上端从上而下依次盖合有第一石英盖、第二石英盖,第一石英盖与第二石英盖之间形成排气腔,第二石英盖上设置有第一通气孔,第一通气孔上垂直安装有调压管,排气片盖合在第一通气孔上,在内胆本体的环壁上设有第二通气孔,第二通气孔位于所述第一石英盖与第二石英盖之间,在掺杂过程中,通过排气片、调压管及通气孔可调节石英内胆内的压力,避免冒泡现象的产生,减少掺杂剂的挥
一种直拉硅单晶的镓元素掺杂装置及其掺杂方法.pdf
本发明公开了一种直拉硅单晶的镓元素掺杂装置,包括具有底部掺杂孔的掺杂杯,所述掺杂杯上设有悬挂结构,悬挂结构上设有与提拉夹头相匹配的吊杆;所述掺杂杯的材质为熔点高于硅且不易与熔硅反应的材质;所述掺杂孔内填充有固化的熔硅。本发明还提供了使用上述掺杂装置的直拉硅单晶的镓元素掺杂方法,其中使用前用熔硅封住掺杂杯底部掺杂孔;使用时下降掺杂杯至液面下3~8mm,浸没掺杂孔,待封住掺杂孔的硅料熔化,镓元素将沿着掺杂孔流向熔硅。本发明镓元素掺杂装置能够实现多次重复使用,在实现掺杂后,充分利用熔硅特点和单晶炉内温度分布特点
直拉硅单晶炉装置及硅单晶拉制方法.pdf
本发明提供了一种提高单晶硅纯度的直拉单晶硅炉装置以及单晶硅拉制方法,该单晶炉装置的特征在于,在炉腔(16)中硅熔体(14)的上方设置一个两端开口长筒形的罩体(5),所述罩体(5)的上端设置于炉腔的上部,开口正对着副室,或设置于副室(1)内,罩体(5)与硅熔体(14)液面接近的一端与硅熔体(14)液面具有一间距。在单晶硅拉制过程中,将惰性气体从副室(1)流向罩体(5),再沿着罩体(5)从其下端流出,最终经排气口(12)排出。利用带有罩体的单晶炉装置以及拉制方法所得的单晶硅的纯度比现有技术的方法所得单晶的纯度
一种用于重掺硼或磷直拉硅单晶掺杂装置和掺杂方法.pdf
本发明涉及一种用于重掺硼或磷直拉硅单晶掺杂装置和掺杂方法,掺杂装置由耐高温石英玻璃制成阶梯型倒置杯状体,从上到下分为固定腔、置放腔、扩散腔三部分,固定腔、置放腔为直径较小的圆筒部分,固定腔顶部四周留有数个小孔用于与直拉硅单晶生长炉内的挂钩连接,置放腔与固定腔之间有一块石英玻璃片相隔绝,扩散腔(3)为直径稍大于固定腔、置放腔直径的开口圆筒,置放腔和扩散腔(3)连接部位有三个L型卡槽,用于固定嵌入的硅片;掺杂时,将掺杂元素置于置放腔内,插入一薄硅片使置放腔和扩散腔隔开,将置放腔和扩散腔都浸入直拉硅单晶炉的熔体
直拉硅单晶的收尾方法及直拉硅单晶的制备方法.pdf
本发明涉及一种直拉硅单晶的收尾方法,其包括如下步骤:S1、将炉温的设置参数调大至预定的收尾温度,并控制晶体等径生长;S2、在炉温的设置参数调大后的20~30min后,控制并降低埚升为1~3mm/hr,使晶体进入第一段收尾生长;S3、在第一段收尾生长结束后,将晶体的拉速降低,同时控制坩埚静止,使晶体进入第二段收尾生长;S4、在第二段收尾生长结束后,将晶体的拉速提高到所述第一段收尾生长时晶体拉速的90%~120%,使晶体进入第三段收尾生长,直至晶体收尖脱离液面。上述直拉硅单晶的收尾方法,减小晶体收尾长度,增大