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基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备.pdf
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相关资料
基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备.pdf
本发明公开了一种基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备，包括：加热炉；流化管，流化管安装于所述加热炉的炉腔内，流化管由下至上间隔设置有下盖板、一级流化床、二级流化床和上盖板，下盖板与一级流化床之间具有流化气腔，一级流化床与所述二级流化床之间具有一级流化腔，所述二级流化床与所述上盖板之间具有二级流化腔；流化气体源通过所述流化气体管道与所述流化气腔相连通，所述第一前驱体管道将第一前驱体通入所述一级流化腔；第二前驱体管道将第二前驱体通入所述二级流化腔；尾气管道的一端与所述二级流化腔相连通，其另一端与尾气
2023-06-15
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化学气相沉积设备.pdf
一种化学气相沉积设备包括一个腔体，一个气体导入装置，一个抽气装置，一个加热装置，及一个驱动装置。所述腔体具有相对的第一侧与第二侧，及一个位于第一侧与第二侧之间用于放置待镀膜滚轮的镀膜区。所述气体导入装置设置于所述腔体内部且位于所述第一侧的上方，所述气体导入装置具有一个喷头，所述喷头朝向所述镀膜区以向所述镀膜区喷反应气体。所述抽气装置设置于所述第二侧的下方，所述抽气装置用于抽取所述腔体内的气体使所述腔体内形成从第一侧流向第二侧且经过所述镀膜区的气流。所述加热装置位于所述镀膜区的下方且设置于所述腔体对应镀膜区
2023-10-21
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化学气相沉积设备.pdf
本发明提供一种化学气相沉积设备。所述设备包括反应室、气体引入单元和气体排出单元。气体室包括基座和反应炉，在基座上装载晶片，在反应炉中用化学气相沉积处理晶片。气体引入单元设置在反应室的外壁，以从反应炉外部向反应炉中心部分供应反应气体。气体排出单元设置在反应室的中心部分，以在反应气体被用于在反应炉中的反应之后将反应气体排放到反应室的上面的外部或下面的外部。因此，即使当增加工艺压力以生长高温沉积层时，室内的气体强度也可保持在基本均匀的状态。
2023-06-20
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抽气装置、低压化学气相沉积设备以及化学气相沉积方法.pdf
本发明提供抽气装置、低压化学气相沉积设备以及化学气相沉积方法。一种抽气装置，用于抽取低压化学气相沉积设备的炉管内的气体，其特征在于，所述抽气装置包括：并联的第一阀、第二阀和第三阀，其通过导管与炉管的排气口相连；抽气泵，其通过导管与第一至第三阀相连，其中第一阀、第二阀和第三阀分别与抽气泵一起工作用于降低炉管内气压且降低炉管内气压的速率依次递减。利用本发明可以改善现有的低压化学气相沉积设备内颗粒污染较为严重的问题。
2023-06-19
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一种连续式粉体沉积包覆装置.pdf
本发明公开了一种连续式粉体沉积包覆装置，属于水处理技术领域，包括进料机、反应炉和冷却装置；所述反应炉的左端与进料机相连、右端与冷却装置相连；所述反应炉的上端部外周还套设有旋转齿轮。本发明提供了一种连续式粉体沉积包覆装置，其通过气流输送物料，提高了进样速度，并且快速将粉料送到高温区域，解决了进样慢的问题；并先将粉料与可挥发性化合物预混合，粉料在快速进入高温区时，挥发性化合物便裂解沉积在粉料的表面和内部，改变了现有传统的沉积方式，提高了效率和品质。
2023-06-15
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