一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113652616A(43)申请公布日2021.11.16(21)申请号202110745907.0C21D1/26(2006.01)(22)申请日2021.07.01C21D6/00(2006.01)C21D9/52(2006.01)(71)申请人中国电子科技集团公司第九研究所B22D11/06(2006.01)地址621000四川省绵阳市高新区滨河北B22F9/04(2006.01)路西段268号(72)发明人陈文波焦健唐定兵(74)专利代理机构成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙)51304代理人罗江(51)Int.Cl.C22C45/02(2006.01)C23C4/134(2016.01)C23C4/06(2016.01)C23C4/02(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法，属于涂层制备技术领域，所述软磁非晶涂层由Fe、Co、Ni、Ho、Si、B、C、Cr等8种元素组成，制备步骤包括：配料，按照涂层的各组分重量百分比配制原料；甩带，利用真空甩带机将上述原料制作成薄带；热处理，将薄带在真空炉中进行退火处理；机械粉碎后造粒，将薄带研磨成粉末并进行造粒处理；将基体材料依次进行去油、喷砂、清洗及干燥处理；制备涂层，采用热喷涂法将步粉末沉积在基体表面，即得涂层，所获涂层具有非晶态结构，该非晶结构良好的保留了材料在高温时的无序状态，因此涂层具有高的饱和磁化强度和电阻率。CN113652616ACN113652616A权利要求书1/1页1.一种高性能软磁非晶涂层，其特征在于，所述涂层的组分重量百分比为：Fe44％～45％，Co5.5％～5.7％，Ni5.5％～5.7％，Ho18.1％～18.9％，Si4.2％～5.2％，B17.5％～18.5％，C1.6％～2.1％，Cr1％～1.5％；所述涂层有非晶态结构，饱和磁化强度≥90emu/cm2，电阻率≥200μΩ/cm。2.根据权利要求1所述的高性能软磁非晶涂层，其特征在于：所述涂层的组分重量百分比为：Fe44.5％～45％，Co5.6％～5.65％，Ni5.55％～5.6％，Ho18.7％～18.9％，Si4.4％～4.5％，B17.7％～18.0％，C1.6％～1.7％，Cr1％～1.5％。3.根据权利要求1或2所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：S1、配料，按照涂层的各组分重量百分比配制原料；S2、甩带，利用真空甩带机将步骤S1中原料制作成薄带；S3、热处理，将步骤S2中得到的薄带在真空炉中进行退火处理；S4、机械粉碎后造粒，将经步骤S3处理后的薄带研磨成粉末并进行造粒处理；S5、将基体材料依次进行去油、喷砂、清洗及干燥处理；S6、制备涂层，采用热喷涂法将步骤S4获得的粉末沉积在经步骤S5处理的基体表面，即得涂层。4.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S2中薄带的厚度为5μm～20μm。5.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S3中退火处理的温度为700～900℃，保温时间为1.5～2小时。6.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S4中的研磨粉末方法是气流磨或球磨法；所述的造粒处理是球磨法或喷雾干燥法。7.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S5中的基体材料选自不锈钢、铝合金、坡莫合金中的一种。8.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述的步骤S5中的喷砂处理，喷砂颗粒成分是氧化铝或石英砂，颗粒粒径为60～200目，喷砂压力为0.1MPa～0.8MPa。9.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S5中的干燥是在真空或惰性气氛环境下进行干燥处理，所述干燥温度＜100℃，所述惰性气体为氮气或氩气。10.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述的步骤S6中的热喷涂法为等离子喷涂；所述等离子喷涂喷枪与基体的距离为120～150mm，喷枪的移动速度为200～500mm/min，送粉速率,50～150g/min，送粉气流为10～15L/min，电流范围为400～500A；主气成分为氩气或氮气，流量范围为60～80L/min；次气成分为氢气，流量范围为12～15L/min。2CN113652616A说明书1/3页一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及涂层制备技术领域，具体涉及一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法。背景技术