真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115466936A(43)申请公布日2022.12.13(21)申请号202211114381.7(22)申请日2022.09.13(71)申请人安徽其芒光电科技有限公司地址230000安徽省合肥市高新区文曲路19号3楼101室(72)发明人王怀民姜友松葛鹤龄(74)专利代理机构苏州大成君合知识产权代理事务所(普通合伙)32547专利代理师张印铎杨新星(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图2页(54)发明名称真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备(57)摘要公开一种真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，真空镀膜设备用抽真空机构包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道沿所述轴向延伸，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；在一垂直于所述轴向的平面上，所述冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。本说明书所提供的真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，能够节约真空腔室的空间，避免冷阱主体被污染，减小能耗损失，且不占用排气通道。CN115466936ACN115466936A权利要求书1/2页1.一种真空镀膜设备用抽真空机构，包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道沿所述轴向延伸，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；在一垂直于所述轴向的平面上，所述冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。2.一种真空镀膜设备用抽真空机构，包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室，所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游，具有通入所述容纳腔室的端口；所述冷阱主体在所述端口所在平面上的垂直投影围绕在所述端口的外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。3.根据权利要求1或2所述的抽真空机构，所述冷阱组件还包括固定安装于所述容纳腔室内承载所述冷阱主体的第一安装框架；所述第一安装框架在所述平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影或所述端口外侧。4.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述冷阱主体在所述平面的垂直投影位于所述第一安装框架的垂直投影与所述连通通道的垂直投影之间或所述第一安装框架的垂直投影与所述端口之间。5.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述端口的面积与所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影的面积之比为0.5～0.8。6.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述端口的形状为矩形、圆形、或椭圆形中的一种；所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影为矩形、圆形、或椭圆形中的一种。7.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述端口为第一矩形，所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影为第二矩形；所述第一矩形的面积与所述第二矩形的面积之比为0.5～0.8；进一步地，所述第一矩形的面积与所述第二矩形的面积之比为0.7；和/或，所述第一矩形的长边长度与所述第二矩形的长边长度之比为0.6～0.9；进一步地，所述第一矩形的长边长度与所述第二矩形的长边长度之比为0.7或0.8。8.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述抽真空机构在所述容纳腔室相对于所述连通通道的另一侧设有第二安装框架，所述泵组件包括连通所述容纳腔室的第一泵体以及安装于所述第二安装框架上的第二泵体；所述第二泵体为调节精度高于第一泵体的分子泵。9.根据权利要求8所述的抽真空机构，所述端口、所述第一安装框架和所述第二安装框架在所述连通通道的延伸方向上顺次排列。10.根据权利要求2所述的抽真空机构，所述容纳腔室具有围绕在所述端口周侧的垂直于所述连通通道延伸方向的挡壁，所述冷阱主体被遮挡定位于所述挡壁背离所述连通通道的一侧。2CN115466936A权利要求书2/2页11.根据权利要求1或2所述的抽真空机构，所述连通通道位于所述真空腔室的侧壁，所述连通通道的延伸方向垂直于所述侧壁。12.一种真空镀膜设备，包括用于镀膜的真空腔室、以及用于对所述真空腔室抽真空的抽真空机构，所述抽真空机构为如权利要求1至11中任一项所述的抽真空机构。3CN115466936A说明书1/7页真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备技术领域[0001]本说明书涉及真空镀膜技术领域，尤