一种大尺寸碳化硅单晶的PVT生长装置.pdf
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一种大尺寸碳化硅单晶的PVT生长装置.pdf
本发明提供一种大尺寸碳化硅单晶的PVT生长装置,包括生长炉、X射线原位成像模块和控制系统,生长炉由外至内包括炉壁、保温毡、板型电阻加热器和坩埚,X射线原位成像模块包括分别设于生长炉的单晶生长的径向方向的相对两侧的X射线源和X射线成像接收器;炉壁于径向方向的两侧具有用于X射线透过的非金属窗口,保温毡、板型电阻加热器和坩埚均由非金属材料制成;控制系统接收X射线成像接收器的成像信号,并控制X射线源和板型电阻加热器工作。该生长装置可满足大尺寸碳化硅PVT单晶生长所需的较小径向温度梯度和必要的轴向温度梯度,并且利用
一种大尺寸碳化硅单晶生长装置.pdf
本发明公开了一种大尺寸碳化硅单晶生长装置,涉及晶体生长技术领域,包括主体,所述主体的前端设置有加热箱,所述主体的上端设置有第一竖孔,所述加热箱的外部顶端安装有调节机构,所述加热箱的内腔中间设置有埚盖,所述埚盖的下端安装有生长坩埚,所述生长坩埚的外部两侧安装有保温机构,所述生长坩埚的下方设置有空腔,所述空腔的中间安装有升降机构。本发明通过支架安装在加热箱的上端,在使用时,驱动电机,带动顶端的主动轮顺时针转动,从而通过驱动带在带动一侧的从动轮,再由从动轮带动下端的滑杆和竖轴进行转动,从而同步带动下方的生长坩埚
一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长方法.pdf
本发明提供了一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长方法,它主要包括以下控制阶段:SiC粉末制备、装炉抽真空、排除杂质气体、快速升温加压、降压恒温、晶体生长、收尾阶段和退火。采用PVT法生长碳化硅单晶,首先对原料进行预处理,提高了原料的纯度和密度,减少了晶体中可能出现的缺陷,将SiC粉末装炉,抽真空后通过控制温度在1300~1400℃范围内一段时间以排除杂质气体,充入高纯氩气后快速升温至2100~2400℃。当温度恒定在某一值后,在保持温度平稳的情况下逐渐降低气压,此时粉源开始升华至籽晶处开始生长,晶
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本发明涉及一种PVT法气流导向的碳化硅单晶生长装置及使用方法。包括粘接石墨籽晶托、籽晶、坩埚上、石墨连接环、坩埚下、外壳箱体、上测温杆和下测温杆,石墨连接环的材质是与坩埚上和坩埚下材质不同的多孔石墨材料,孔径为1‑100μm,孔隙率和孔径均与坩埚上和坩埚下有差异。步骤包括:装炉、升温、抽真空、冲惰性气体、升温保压、降压、降温。本发明使反应系统内的气体利用石墨的孔隙差异在指定位置溢出,通过反应气体在籽晶表面和边缘的滞留时间和流向的控制,以及坩埚内外气体压力差的控制来达到生长高质量,尤其是可以抑制边缘小裂纹和
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大尺寸碳化硅单晶生长设备及温控方法研究大尺寸碳化硅单晶生长设备及温控方法研究摘要:碳化硅(SiC)是一种新兴的半导体材料,具有优异的特性,在高温、高电压、高频等条件下具有很好的性能表现。碳化硅单晶的生长是制备高性能SiC器件的重要步骤。本文针对大尺寸碳化硅单晶的生长设备及温控方法展开了研究,介绍了一种基于悬臂炉的碳化硅单晶生长设备,并探讨了温控方法的优化方案。通过实验和分析,得出了一种高效、稳定的温控方法,为大尺寸碳化硅单晶生长提供了重要的参考。关键词:碳化硅单晶、生长设备、温控方法、悬臂炉、优化方案1.