还原炉底盘清洗装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114632769A(43)申请公布日2022.06.17(21)申请号202210299186.XC01B33/035(2006.01)(22)申请日2022.03.25(71)申请人新疆大全新能源股份有限公司地址832000新疆维吾尔自治区石河子经济开发区化工新材料产业园纬六路16号申请人内蒙古大全新能源有限公司(72)发明人丁建谭忠芳杨涛莫可璋(74)专利代理机构北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)11348专利代理师刘铁生孟阿妮(51)Int.Cl.B08B5/04(2006.01)B08B1/04(2006.01)B08B5/02(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称还原炉底盘清洗装置(57)摘要本发明公开了一种还原炉底盘清洗装置，涉及多晶硅生产技术领域，主要目的是安全高效的清理还原炉底盘的垢层。本发明的主要技术方案为：还原炉底盘清洗装置，包括：密封罩体盖合于还原炉底盘，密封罩体的上端连接于吸尘管，密封罩体的上端设有中心孔；转轴腔体通过轴承安装于中心孔内；橡胶软管的一端连接于压缩空气设备，多个喷吹管圆周均布于转轴腔体的下端轴侧，多个喷吹管分别贯穿转轴腔体的侧壁，并分别连接于橡胶软管的另一端，每一个喷吹管轴向排列有多个喷嘴，用于向还原炉底盘吹出气流；气缸体固定设置于转轴腔体内，气缸体的活塞杆分别连接于多个清扫杆体，每一个清扫杆体的轴侧均布有多个扫刷，用于清扫还原炉底盘。CN114632769ACN114632769A权利要求书1/1页1.一种还原炉底盘清洗装置，其特征在于，包括：密封罩体，所述密封罩体盖合于还原炉底盘，所述密封罩体的上端连接于吸尘管，所述密封罩体的上端设有中心孔；转轴腔体，所述转轴腔体通过轴承安装于所述中心孔内；喷吹部，所述喷吹部包括橡胶软管和多个喷吹管，橡胶软管的一端连接于压缩空气设备，多个所述喷吹管圆周均布于所述转轴腔体的下端轴侧，多个所述喷吹管分别贯穿所述转轴腔体的侧壁，并分别连接于所述橡胶软管的另一端，每一个所述喷吹管轴向排列有多个喷嘴，用于向还原炉底盘吹出气流；清扫部，所述清扫部包括气缸体和多个清扫杆体，所述气缸体固定设置于所述转轴腔体内，所述气缸体的活塞杆分别连接于多个所述清扫杆体，用于带动多个所述清扫杆体上下移动，每一个所述清扫杆体的轴侧均布有多个扫刷，用于清扫还原炉底盘。2.根据权利要求1所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，多个所述清扫杆体和多个所述喷吹管交替排列于所述转轴腔体的轴侧。3.根据权利要求1所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，所述转轴腔体圆周均布有多个竖向滑槽，每一个所述清扫杆体对应于其中一个所述竖向滑槽。4.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，还包括驱动电机、主动齿轮和从动齿轮盘，所述驱动电机固定安装于所述密封罩体的上端，所述主动齿轮平键连接于所述驱动电机的输出轴，所述从动齿轮盘固定连接于所述转轴腔体的上端，所述主动齿轮啮合于所述从动齿轮盘。5.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，每一个所述清扫杆体包括支撑杆和套管，所述支撑杆连接于所述气缸体的活塞杆，所述套管套接于所述支撑杆，多个所述扫刷均布于所述套管的轴侧。6.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，所述喷嘴的气流喷出方向倾斜向下。7.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，所述密封罩体的上端面设有玻璃视镜。8.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，所述密封罩体的上端面圆周均布有多个吊环。9.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，所述密封罩体的下端边缘固定连接于法兰盘，所述法兰盘对应于还原炉底盘法兰。10.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，还包括控制面板，所述控制面板固定安装于所述密封罩体的上端，所述控制面板电连接于所述气缸体，用于控制所述气缸体的活塞杆的上下运动。2CN114632769A说明书1/6页还原炉底盘清洗装置技术领域[0001]本发明涉及多晶硅生产技术领域，尤其涉及一种还原炉底盘清洗装置。背景技术[0002]在生产多晶硅的生产技术中，改良西门子法为主要的生产方法。多晶硅还原炉是多晶硅生产中产出最终产品的核心设备，也是决定系统产能、能耗的关键环节。[0003]还原炉是生产多晶硅的核心关键生产设备。多晶硅还原炉在生成多晶硅硅棒的过程中，也会在电极和炉盘上不断形成垢层。它们的存在会导致绝缘等级的降低甚至破坏、反射面反射效率降低等问题，必须及时清理。目前主要靠人工清理，主要采取机械清理，铲刀刮、榔头敲、砂纸磨，费时费力、效果也不好。由于作业时炉盘会