窑炉温度控制方法、系统、装置及存储介质.pdf
一条****杉淑
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窑炉温度控制方法、系统、装置及存储介质.pdf
本发明涉及温度控制技术领域,公开一种窑炉温度控制方法、系统、装置及存储介质。该方法包括:获取窑炉内部的实时温度信息,得到实际温度值;根据实际温度值以及温度预设值预测窑炉内部的温度参考轨迹;根据温度预设值与温度参考轨迹之间的误差以及历史温度控制量计算优化指标参数,对优化指标参数进行滚动优化处理以确定符合预测期望的优化指标参数,以该优化指标参数所对应的温度预设值作为温度预测输出值;根据温度预测输出值计算未来控制量;根据未来控制量计算当前的控制量输出值,根据当前的控制量输出值计算燃气阀门开度控制量,以对窑炉内部
窑炉温度自动控制方法、系统、设备及可读存储介质.pdf
本发明公开了一种窑炉温度自动控制方法、系统、设备及可读存储介质,涉及窑炉温控技术领域,方法包括:获取参与温度控制的温控点的预设参数,预设参数包括开始时间、结束时间、保温配方、结束配方及升降温梯度;根据预设参数分别计算温控点的开始温度、保温温度、结束温度、降温阶段总时间及升温阶段总时间;根据开始时间、开始温度、保温温度、结束温度、降温阶段总时间及升温阶段总时间,分别设置温控点所对应的温控表的实时调控温度;分别驱动温控表根据实时调控温度调节温控点的温度。采用本发明,可实现窑炉温度的自动升降,节省人力物力。
温度调节方法、系统、装置及存储介质.pdf
本申请涉及芯片测试技术领域,提供了一种温度调节方法、系统、装置及存储介质,该方法应用于温度控制系统,温度控制系统包括半导体器件、散热器、通风设备,半导体器件用于将芯片产生的温度传输到散热器上,通风设备用于加快散热器散热,包括:获取芯片的实际温度;根据期望温度与实际温度,计算误差值;根据误差值的大小,控制温度控制系统处于制冷模式或者制热模式,以调整芯片的实际温度;当芯片的实际温度与期望温度的差值小于第一阈值,则维持当前芯片的实际温度。本申请通过半导体器件调整制冷模式或者制热模式,冷热转换方便,又增加了散热器
温度控制方法、装置、设备及存储介质.pdf
本发明公开了一种温度控制方法、装置、设备及存储介质,属于电子设备控制技术领域。本发明通过获取目标电子器件的当前工作温度,并判断当前工作温度是否超过预警温度,在当前工作温度未超过预警温度时,获取目标电子器件的温升参数,在温升参数满足预警条件时,获取目标电子器件的当前运行状态,根据当前运行状态确定对应的散热策略,并根据散热策略对目标电子器件进行散热。由于本发明是通过监测工作温度和温升参数是否正常,若温升参数满足预警条件,则发送预警信号,并进行降温,解决了电子器件的温度预警和温度控制具有滞后性的缺陷,有效避免了
温度控制方法、装置、设备及存储介质.pdf
本发明涉及数控机床领域,尤其涉及一种温度控制方法、装置、设备及存储介质,该方法包括:获取机床主轴工况数据样本,并根据所述机床主轴工况数据样本预估发热功率;根据所述机床主轴工况数据样本和所述预估发热功率建立发热功率回归模型;获取当前机床主轴工况数据,将所述当前机床主轴工况数据输入至所述发热功率回归模型,并得到所述发热功率回归模型基于所述当前机床主轴工况数据输出的当前工况下的发热功率;获取当前散热功率,并根据当前散热功率和所述当前工况下的发热功率对机床主轴进行温度控制,能够提前预测主轴发热功率,并由冷却系统自