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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115613120A(43)申请公布日2023.01.17(21)申请号202211339977.7(22)申请日2022.10.25(71)申请人三一硅能(株洲)有限公司地址412000湖南省株洲市石峰区铜塘湾街道铜霞路255号隆信国际1号楼518-50室(72)发明人钟伟(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002专利代理师朱威武(51)Int.Cl.C30B15/00(2006.01)C30B29/06(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图6页(54)发明名称拉晶炉的冷却装置及拉晶炉(57)摘要本发明涉及晶体生产制造装置技术领域,提供一种拉晶炉的冷却装置及拉晶炉,包括用于供冷却介质流通的螺旋管道,螺旋管道的截面形状具有至少一个直线边,至少一个直线边所在的螺旋管道表面为第一吸热面,其余螺旋管道的表面为第二吸热面,第一吸热面平行于螺旋管道的中轴线,使用本装置时,可以在拉晶炉的炉壁内部以及腔室内部分别设置螺旋管道,由各自螺旋管道的第一吸热面分别螺旋环绕于腔室周围以及腔室内生长的晶体周围,相较于现有技术,第一吸热面各局部位置从整体上更靠近发热体,冷却效果更优,另外第二吸热面还能够在侧向进行换热冷却,整体提高了冷却效率,进而提高了单晶硅晶体的生产效率。CN115613120ACN115613120A权利要求书1/1页1.一种拉晶炉的冷却装置,其特征在于,包括用于供冷却介质流通的螺旋管道,所述螺旋管道的截面形状具有至少一个直线边,至少一个所述直线边所在的所述螺旋管道的表面为第一吸热面(1),其余所述螺旋管道的表面为第二吸热面(2),所述第一吸热面(1)平行于所述螺旋管道的中轴线。2.根据权利要求1所述的拉晶炉的冷却装置,其特征在于,所述螺旋管道的截面形状为三角形,所述三角形的其中一个直线边所在的所述螺旋管道的表面为所述第一吸热面(1),其余所述三角形的直线边所在的所述螺旋管道的表面为所述第二吸热面(2)。3.根据权利要求1所述的拉晶炉的冷却装置,其特征在于,所述螺旋管道的截面形状为半圆形,所述半圆形的直线边所在的所述螺旋管道的表面为所述第一吸热面(1),所述半圆形的弧形边所在的所述螺旋管道的表面为所述第二吸热面(2)。4.根据权利要求1所述的拉晶炉的冷却装置,其特征在于,所述螺旋管道的截面形状为矩形,所述矩形的其中一个直线边所在的所述螺旋管道的表面为所述第一吸热面(1),其余所述矩形的直线边所在的所述螺旋管道的表面为所述第二吸热面(2)。5.根据权利要求1‑4任一项所述的拉晶炉的冷却装置,其特征在于,所述第一吸热面(1)和/或所述第二吸热面(2)上设有多个凸起或凹坑,多个所述凸起或凹坑位于所述螺旋管道内部。6.根据权利要求1所述的拉晶炉的冷却装置,其特征在于,所述第一吸热面(1)和/或所述第二吸热面(2)上设有吸热层(6)。7.根据权利要求1所述的拉晶炉的冷却装置,其特征在于,所述螺旋管道包括由宽至窄渐变设置的多个螺旋节段。8.一种拉晶炉,其特征在于,包括:炉壁(5);腔室(3),位于所述炉壁(5)内部;权利要求1‑7任一项所述的拉晶炉的冷却装置;其中,所述炉壁(5)内部设有所述螺旋管道,位于所述炉壁(5)内部的所述第一吸热面(1)螺旋环绕于所述腔室(3)周围;和/或,所述腔室(3)内部设有所述螺旋管道,位于所述腔室(3)内部的所述第一吸热面(1)螺旋环绕于所述腔室(3)中生长的晶体(4)周围。9.根据权利要求8所述的拉晶炉,其特征在于,还包括设置于所述腔室(3)内部的坩埚(7)和加热装置(8),所述坩埚(7)内设有能够生长为晶体(4)的溶液,所述加热装置(8)用于对所述坩埚(7)加热。10.根据权利要求9所述的拉晶炉,其特征在于,还包括设置于所述腔室(3)内部的反射屏(9),所述反射屏(9)用于将所述加热装置(8)的热辐射反射至所述腔室(3)的热场。2CN115613120A说明书1/6页拉晶炉的冷却装置及拉晶炉技术领域[0001]本发明涉及晶体生产制造装置技术领域,尤其涉及一种拉晶炉的冷却装置及拉晶炉。背景技术[0002]太阳能收集器件的制备经常使用到单晶硅晶体,单晶硅晶体是硅原子定向排列形成的物质。单晶硅晶体的制作通常需要使用到拉晶炉,在制作单晶硅晶体过程中,在拉晶炉的内部利用电加热的方式熔融多晶硅,并从中进行晶体的拉制。在拉晶的过程中,由于炉内温度较高且基于晶体的生长需求,需对拉晶炉内部腔室和腔室内生长的晶体进行冷却,对拉晶炉内部腔室进行冷却能够实现对拉晶炉腔室整体降温的需要,对高温晶体进行冷却能够提高晶体内部的温度梯度,从而加快单晶硅棒的等径拉速,进而提高硅单晶的成晶率。[0003]目前一般采用水冷环或水冷管等冷却装置以辐射的方式分别对晶