窑炉气流量调节系统及方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116007398A(43)申请公布日2023.04.25(21)申请号202310044311.7(22)申请日2023.01.30(71)申请人四川锂源新材料有限公司地址629133四川省遂宁市蓬溪经济开发区金桥工业园区(72)发明人李寿华董涛李明寿杨志宽(51)Int.Cl.F27D19/00(2006.01)F27D7/06(2006.01)F27D7/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称窑炉气流量调节系统及方法(57)摘要本发明提供一种窑炉气流量调节系统及方法，用于调节烧结工序中窑炉内低活性气体的气流量，窑炉具有依次连通的升温箱、恒温箱及冷却箱。该窑炉气流量调节系统包括：升温段调节单元，用于控制升温箱内的气流量从升温箱的入口沿靠近恒温箱的方向逐渐变小；恒温段调节单元，用于控制恒温箱内各处的气流量均衡；以及冷却段调节单元，用于控制冷却箱内的气流量从冷却箱的入口沿远离恒温箱的方向逐渐变大，升温箱内的最大气流量小于冷却箱内的最大气流量。窑炉气流量曲线呈后高前低的U型，窑炉内的氧气从后向前排，加速气体流通降低氧含量的同时，恒温段气流量降低，整体气流量降低，可减少低活性气体的使用量。CN116007398ACN116007398A权利要求书1/1页1.一种窑炉气流量调节系统，用于调节烧结工序中窑炉内低活性气体的气流量，所述窑炉具有依次连通的升温箱、恒温箱及冷却箱，其特征在于，所述窑炉气流量调节系统包括：升温段调节单元，用于控制所述升温箱内的气流量从所述升温箱的入口沿靠近所述恒温箱的方向逐渐变小；恒温段调节单元，用于控制所述恒温箱内各处的气流量均衡；以及冷却段调节单元，用于控制所述冷却箱内的气流量从所述冷却箱的入口沿远离所述恒温箱的方向逐渐变大，所述升温箱内的最大气流量小于所述冷却箱内的最大气流量。2.如权利要求1所述的窑炉气流量调节系统，其特征在于，所述升温箱、所述恒温箱及所述冷却箱均具有多个进气口，所述升温箱和所述恒温箱均具有出气口，所述冷却箱未设置出气口；所述升温段调节单元、所述恒温段调节单元及所述冷却段调节单元分别通过调节所述升温箱、所述恒温箱、所述冷却箱的多个进气口的进气量以控制气流量。3.如权利要求2所述的窑炉气流量调节系统，其特征在于，所述恒温箱内的气流量与所述升温箱内最小的气流量相等。4.一种窑炉气流量调节方法，用于调节烧结工序中窑炉内低活性气体的气流量，所述窑炉具有依次连通的升温箱、恒温箱及冷却箱，其特征在于，该方法包括：控制所述升温箱内的气流量从所述升温箱的入口沿靠近所述恒温箱的方向逐渐变小；控制所述恒温箱内各处的气流量均衡；以及控制所述冷却箱内的气流量从所述冷却箱的入口沿远离所述恒温箱的方向逐渐变大，所述升温箱内的最大气流量小于所述冷却箱内的最大气流量。5.如权利要求4所述的窑炉气流量调节方法，其特征在于，所述恒温箱内的气流量与所述升温箱内最小的气流量相等。6.如权利要求4所述的窑炉气流量调节方法，其特征在于，所述冷却箱内的最大气流量根据所述窑炉炉体内部最大承受压力来定，所述冷却箱内的最大气流量小于所述窑炉炉体内部最大承受压力。7.如权利要求6所述的窑炉气流量调节方法，其特征在于，所述升温箱的最大气流量大于或等于各段气流量均等时，能满足所述恒温箱的含氧量标准的气流量。8.如权利要求4所述的窑炉气流量调节方法，其特征在于，所述“控制所述冷却箱内的气流量从所述冷却箱的入口沿远离所述恒温箱的方向逐渐变大”的步骤包括，控制所述冷却箱内的气流量从所述冷却箱的入口沿远离所述恒温箱的方向逐渐变大，然后再逐渐变小。9.如权利要求8所述的窑炉气流量调节方法，其特征在于，控制所述冷却箱内的气流量突然增大到一个峰值，然后再逐渐变小。10.如权利要求8所述的窑炉气流量调节方法，其特征在于，所述峰值出现在所述冷却箱中温度小于40℃的区间。2CN116007398A说明书1/4页窑炉气流量调节系统及方法技术领域[0001]本发明属于窑炉烧结环境技术领域，具体涉及窑炉气流量调节系统及方法。背景技术[0002]通常，电池材料在制造过程中需要经过窑炉烧结工序，为避免在烧结过程中，环境中的水气，主要是氧气，与物料发生副反应，而影响产品性能，因此，烧结需要在低活性气体环境中进行。现有技术一般是源源不断地通入低活性气体，将窑炉中原有的氧气通过挤压与排风机抽力的作用下消耗殆尽。[0003]但是，实际情况中，窑炉中的氧气很难彻底清除干净，在不影响产品性能的情况下，可以允许一定量的氧气的存在，如果一味追求无氧环境而加大低活性气体气流量，容易造成低活性气体的浪费，使成本增加。此外，窑炉烧结工序包括升温段、恒温段及冷却段，各段对氧含量的要求不同，例如，恒温段氧