化合物,树脂,抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102001926A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102001926A(43)申请公布日2011.04.06(21)申请号201010269794.3(51)Int.Cl.C07C49/84(200601)(22)申请日2010.08.31.C07C69/84(2006.01)(30)优先权数据C07C69/773(2006.01)2009-20272520090902..JPC07C69/92(2006.01)(71)申请人住友化学株式会社C07C69/54(2006.01)地址日本国东京都C07C69/96(2006.01)C08F220/30(200601)(72)发明人桥本和彦市川幸司.G03F7/039(2006.01)(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任G03F7/00(2006.01)公司11021代理人陈平权利要求书2页说明书52页(54)发明名称化合物,树脂,抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法(57)摘要本发明提供化合物，树脂，抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法。本发明的化合物1由式(A)表示；其中R表示氢原子或C1至C61烷基；Z表示单键，-CO-O-*或-CO-O-(CH2)2k-CO-O-*；Z表示单键，*-O-CO-，*-CO-O-，*-O-(CH2)k-CO-，*-CO-(CH2)k-O-，*-O-(CH2)k-CO-O-，*-O-CO-(CH2)k-O-或*-O-CO-(CH2)k-O-CO-；k表示1至6的整数；*表示与W的结合位置；W表示C4至C36(n+1)价脂环烃基或C6至C18(n+1)价芳族烃基，在所述脂族烃基和所述芳族烃基中含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子，C1至C12烷10基，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基或-OR取代；R10表示氢原子或由式(R2-2)表示的基团；R2表示氢原子，由式(R2-1)或式(R2-2)表示的基团；n表示1至3的整数；R4，R5和R6独A78立地表示C1至C12烃基；R和R独立地表示氢9原子或C1至C12烃基；R表示C1至C14烃基。CN10296CCNN110200192602001936A权利要求书1/2页1.一种化合物，其由式(A)表示；1其中R表示氢原子或C1至C6烷基；1Z表示单键，-CO-O-*或-CO-O-(CH2)k-CO-O-*；2Z表示单键，*-O-CO-，*-CO-O-，*-O-(CH2)k-CO-，*-CO-(CH2)k-O-，*-O-(CH2)k-CO-O-，*-O-CO-(CH2)k-O-或*-O-CO-(CH2)k-O-CO-；k表示1至6的整数；*表示与W的结合位置；W表示C4至C36(n+1)价脂环烃基或C6至C18(n+1)价芳族烃基，在所述脂族烃基和所述芳族烃基中含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子，C1至C12烷基，C1至C12烷氧基，C2至10C4酰基或-OR取代；R10表示氢原子或由式(R2-2)表示的基团；R2表示氢原子，由式(R2-1)表示的基团或由式(R2-2)表示的基团；n表示1至3的整数；456其中R，R和R独立地表示C1至C12烃基；78其中R和R独立地表示氢原子或C1至C12烃基；9R表示C1至C14烃基。2.根据权利要求1所述的化合物，其中由式(A)表示的化合物是由式(A1)表示的化合物；其中R1，R2，R10，Z1，Z2和n表示与上述定义相同的含义，p表示0至3的整数，条件是n+p是1至3的整数。3.根据权利要求1所述的化合物，其中Z1为-CO-O-*。24.根据权利要求1所述的化合物，其中Z为*-O-(CH2)k-CO-或*-O-CO-(CH2)k-O-CO-，2CCNN110200192602001936A权利要求书2/2页其中k表示与上述定义相同的含义。5.根据权利要求1所述的化合物，其中n表示1。6.一种树脂，其包含衍生自权利要求1所述的化合物的结构单元。7.根据权利要求6所述的树脂，所述树脂还包含酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。8.一种抗蚀剂组合物，其包含根据权利要求6所述的树脂以及酸生成剂。9.根据权利要求8所述的抗蚀剂组合物，其还含有碱性化合物。10.一种用于形成抗蚀剂图案的方法，所述方法包括下列步骤：(1)将根据权利要求8或9所述的抗蚀剂组合物涂覆到衬底上，(2)干燥涂覆的组合物以形成组合物层；(3)使用曝光装置曝光所述组合物层；(4)烘焙经曝光的组合物层，和(5)使用显影设备将经烘焙的组合物层显影。3CCNN110200192602001936A说明书1/52页化合物,树脂,抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法技术领域[0001]本发明涉及一种化合物，一