树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法.pdf
莉娜****ua
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树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法.pdf
本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物,其含有:具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。<base:Imagehe=@430@wi=@1000@file=@DDA0003691841560000011.JPG@imgContent=@drawing@imgFormat=@JPEG@orientation=@portrait@inline=@yes@/>[式中、R<base:Sup>i41</base
化合物,树脂,抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法.pdf
本发明提供化合物,树脂,抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法。本发明的化合物由式(A)表示;其中R1表示氢原子或C1至C6烷基;Z1表示单键,-CO-O-*或-CO-O-(CH2)k-CO-O-*;Z2表示单键,*-O-CO-,*-CO-O-,*-O-(CH2)k-CO-,*-CO-(CH2)k-O-,*-O-(CH2)k-CO-O-,*-O-CO-(CH2)k-O-或*-O-CO-(CH2)k-O-CO-;k表示1至6的整数;*表示与W的结合位置;W表示C4至C36(n+1)价脂环烃基或C6至C18(
抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法.pdf
本发明涉及一种抗蚀剂组合物,通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化。含有具有以通式(a0?1)表示的结构单元(a0)的高分子化合物(A1)、以通式(b1)表示的化合物(B1)以及以通式(d1)表示的化合物(D1)。R为氢原子等;Va<base:Sup>01</base:Sup>为2价的连接基团;n<base:Sub>a01</base:Sub>为1~2的整数;Ra<base:Sup>01</base:Sup>为具有氰基等的含内酯环式基;Yb<base:Sup>01</base:Sup>为2价的
化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法.pdf
本发明提供化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述化合物是由式(I)表示的化合物,其中,T1表示单键或C6-C14芳族烃基;L1表示C1-C17二价饱和烃基,其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替;L2和L3各自独立地表示单键或C1-C6二价饱和烃基,其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替;环W1和环W2各自独立地表示C3-C36烃环;R1和R2各自独立地表示氢原子、羟基或C1-C6烷基;R3和R4各自独立地表示羟基或C1-C6烷基;R5表示羟基或甲基;m表示0或1;并且t和u各自独立地表示
树脂和抗蚀剂组合物.pdf
本发明提供一种树脂和抗蚀剂组合物。所述树脂包含衍生自由式(aa)表示的化合物的结构单元,其中T表示C4至C36脂环族烃基,所述脂环族烃基中所含的氢原子可以被卤素原子,羟基,任选被卤素原子或羟基取代的C1至C12烷基,C1至C12烷氧基,C6至C12芳基,C7至C12芳烷基,缩水甘油基氧基,C2至C4酰基,烷氧羰基,烷酰氧基烷基或氰基代替,并且所述脂环族烃基中所含的-CH2-被至少一个-SO2-代替并且还可以被-CO-,-O-,-S-,-SO2-或-N(Rc)-代替;Rc表示氢原子或C1至C6烷基;R1表示