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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102239574A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102239574A(43)申请公布日2011.11.09(21)申请号201080003506.8(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限(22)申请日2010.01.27责任公司11219代理人孙志湧穆德骏(30)优先权数据2009-0411592009.02.24JP(51)Int.Cl.H01L33/32(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日H01L21/205(2006.01)2011.06.07H01S5/343(2006.01)(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2010/0510292010.01.27(87)PCT申请的公布数据WO2010/098163JA2010.09.02(71)申请人住友电气工业株式会社地址日本大阪府(72)发明人善积祐介上野昌纪中村孝夫上田登志雄高须贺英良千田裕彦权利要求书1页说明书15页附图7页(54)发明名称制造发光元件的方法和发光元件(57)摘要一种用于制造发光元件的方法涉及用于制造III-V族化合物半导体的发光元件的方法,所述III-V族化合物半导体具有包括In和N的量子阱结构,所述方法包括如下步骤:形成包括In和N的阱层(13a);形成势垒层(13b),所述势垒层(13b)具有的带隙比所述阱层(13a)的带隙宽;以及在形成所述阱层(13a)的步骤之后以及形成所述势垒层(13b)的步骤之前,供应包括N的气体并且中断外延生长。在中断外延生长的所述步骤中,供应具有的分解效率高于N2和NH3在900℃下分解为活性氮的分解效率的气体。另外,在中断外延生长的步骤中,供应与用作阱层(13a)的N源的气体不同的气体。CN10239574ACCNN110223957402239581A权利要求书1/1页1.一种用于制造III-V族化合物半导体的发光元件(10,20)的方法,所述III-V族化合物半导体具有包括In和N的量子阱结构,所述方法包括如下步骤:形成包括In和N的阱层(13a);形成势垒层(13b),所述势垒层(13b)包括N,并且所述势垒层(13b)的带隙比所述阱层(13a)的带隙宽;以及在形成所述阱层(13a)的所述步骤之后并且在形成所述势垒层(13b)的所述步骤之前,通过供应包括N的气体来中断外延生长,其中,在中断外延生长的所述步骤中,供应具有下述分解效率的所述气体,该分解效率高于N2和NH3在900℃下分解为活性氮的分解效率。2.一种用于制造III-V族化合物半导体的发光元件(10,20)的方法,所述III-V族化合物半导体具有包括In和N的量子阱结构,所述方法包括如下步骤:形成包括In和N的阱层(13a);形成势垒层(13b),所述势垒层(13b)包括N,并且所述势垒层(13b)具有的带隙比所述阱层(13a)的带隙宽;以及在形成所述阱层(13a)的所述步骤之后并且形成所述势垒层(13b)的所述步骤之前,通过供应包括N的气体来中断外延生长,其中,在中断外延生长的所述步骤中,供应与被用作所述阱层(13a)和所述势垒层(13b)的N源的气体不同的所述气体。3.根据权利要求1所述的用于制造发光元件(10,20)的方法,其中,在中断外延生长的所述步骤中,供应包含一甲胺和一乙胺中的至少一种的所述气体。4.根据权利要求3所述的用于制造发光元件(10,20)的方法,其中,在中断外延生长的所述步骤中,供应包含一甲胺和一乙胺中的至少一种和氨的所述气体,所述一甲胺和一乙胺中的所述至少一种具有的浓度为氨浓度的百分之一或者更小。5.一种发光元件(10,20),所述发光元件(10,20)通过使用根据权利要求1所述的用于制造发光元件(10,20)的方法来制造,其中,所述发光元件(10,20)具有450nm或更大的发光波长。6.一种发光元件(10,20),所述发光元件(10,20)通过使用根据权利要求1所述的用于制造发光元件的方法来制造,其中,所述阱层(13a)具有大于或等于1nm且小于或等于10nm的厚度。7.一种发光元件(10,20),所述发光元件(10,20)通过使用根据权利要求1所述的用于制造发光元件的方法来制造,其中,设在当10A/cm2或更大的电流经过所述发光元件(10,20)时y(nm)表示半高全宽且x(nm)表示发光波长,则所述发光元件(10,20)满足0.2333x-90<y<0.4284x-174的关系。2CCNN110223957402239581A说明书1/15页制造发光元件的方法和发光元件技术领域[0001]本发明涉及一种制造发光元件的方法以及发光元件。更具体来讲,本发明涉及一种制造具有包括In(铟)和N(氮)的量子阱结构的III-V族化合物半导体的发光元件