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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102891231A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102891231A(43)申请公布日2013.01.23(21)申请号201210256571.2(22)申请日2012.07.23(30)优先权数据2011-1600272011.07.21JP(71)申请人浜松光子学株式会社地址日本静冈县(72)发明人内山直己(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322代理人杨琦(51)Int.Cl.H01L33/10(2010.01)H01L33/00(2010.01)权利要求书权利要求书2页2页说明书说明书1212页页附图附图1818页(54)发明名称发光元件的制造方法(57)摘要该发光元件的制造方法具备:将聚光点(P1)对准在表面(2a)上形成有III-V族化合物半导体层(17)的蓝宝石基板(2)的内部,以基板(2)的背面(2b)作为激光入射面,沿着切断预定线(5a、5b)照射激光(L1),由此沿着切断预定线(5a、5b)在基板(2)的内部形成改质区域(7a、7b)的工序;其后,在基板(2)的背面(2b)形成光反射层的工序;其后,通过使以改质区域(7a、7b)为起点而产生的龟裂在基板(2)的厚度方向上伸展,从而沿着切断预定线(5a、5b)切断基板(2)、半导体层(17)和光反射层,制造发光元件的工序。CN102893ACN102891231A权利要求书1/2页1.一种发光元件的制造方法,其特征在于,具备:第2工序,将聚光点对准在表面上形成有III-V族化合物半导体层的蓝宝石基板的内部,以所述蓝宝石基板的背面作为激光入射面,沿着规定的切断预定线照射第1激光,由此沿着所述切断预定线在所述蓝宝石基板的内部形成改质区域;第3工序,在所述第2工序之后,在所述蓝宝石基板的所述背面形成光反射层;第4工序,在所述第3工序之后,通过使以所述改质区域为起点而产生的龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展,从而沿着所述切断预定线切断所述蓝宝石基板、所述III-V族化合物半导体层和所述光反射层,制造发光元件。2.根据权利要求1所述的发光元件的制造方法,其特征在于,在所述第2工序中,沿着所述切断预定线在所述蓝宝石基板的内部形成所述改质区域,以使所述第4工序中在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展的所述龟裂至少预先到达所述蓝宝石基板的所述表面。3.根据权利要求1所述的发光元件的制造方法,其特征在于,在所述第2工序中,沿着所述切断预定线在所述蓝宝石基板的内部形成所述改质区域,以使所述第4工序中在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展的所述龟裂预先到达所述蓝宝石基板的所述背面。4.根据权利要求1~3中的任一项所述的发光元件的制造方法,其特征在于,在所述第4工序中,通过从所述光反射层的一侧沿着所述切断预定线压接刀口,从而使以所述改质区域为起点而产生的所述龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展。5.根据权利要求1~4中的任一项所述的发光元件的制造方法,其特征在于,还具备:在所述第3工序之后且所述第4工序之前,通过从所述光反射层的一侧沿着所述切断预定线照射相对于所述光反射层具有吸收性的第2激光,从而使以所述改质区域为起点而产生的所述龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展的工序,在所述第4工序中,通过使以所述改质区域为起点而产生的所述龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展,从而沿着所述切断预定线切断所述蓝宝石基板、所述III-V族化合物半导体层和所述光反射层。6.根据权利要求1~3中的任一项所述的发光元件的制造方法,其特征在于,在所述第4工序中,通过从所述光反射层的一侧沿着所述切断预定线照射相对于所述光反射层具有吸收性的第2激光,从而使以所述改质区域为起点而产生的所述龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展。7.根据权利要求1~4中的任一项所述的发光元件的制造方法,其特征在于,还具备:在所述第3工序之后且所述第4工序之前,通过将聚光点对准所述蓝宝石基板的内部,并从所述III-V族化合物半导体层的一侧沿着所述切断预定线照射相对于所述III-V族化合物半导体层具有透过性的第3激光,从而使以所述改质区域为起点而产生的所述龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上伸展的工序,在所述第4工序中,通过使以所述改质区域为起点而产生的所述龟裂在所述蓝宝石基板的厚度方向上进一步伸展,从而沿着所述切断预定线切断所述蓝宝石基板、所述III-V族化合物半导体层和所述光反射层。2CN102891231A权利要求书2/2页8.根据权利要求1~3中的任一项所述的发光元件的制造方法,其特征在于,在所述第4工序中,通过将聚光点对准所述蓝宝石基板的内部,并从所述III-V族化合物半导体层的一侧沿着所述切断预定线照射相对于所述III-V族化合物半导体层具有透过性的第3激光,从而