用于负型抗蚀剂的可显影底部抗反射涂料组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103733134103733134A(43)申请公布日2014.04.16(21)申请号201280038940.9(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专(22)申请日2012.08.10利商标事务所11038代理人夏正东(30)优先权数据13/206,7962011.08.10US(51)Int.Cl.G03F7/004(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G03F7/039(2006.01)2014.02.10G03F7/09(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C09D133/04(2006.01)PCT/US2012/0502672012.08.10(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/023124EN2013.02.14(71)申请人国际商业机器公司地址美国纽约(72)发明人陈光荣S·J·霍姆斯黄武松刘森权权利要求书2页利要求书2页说明书16页说明书16页附图2页附图2页(54)发明名称用于负型抗蚀剂的可显影底部抗反射涂料组合物(57)摘要一种负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料包括聚合物，该聚合物含有脂肪族醇部分、芳香族部分以及羧酸部分。NDBARC组合物在涂布及烘烤之后不溶于一般的光刻胶溶剂，如丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)。NDBARC材料也包括光酸产生剂以及选择性的交联化合物。在NDBARC材料中，羧酸提供显影剂溶解性，而醇单独、羧酸单独或其组合提供PGMEA抗性。NDBARC材料对光刻胶溶剂具有抗性，因此，在涂布光刻胶于NDBARC上方的过程中，NDBARC与光刻胶之间不会发生互混。在曝光及烘烤之后，由于负型光刻胶中的聚合物与光刻曝光部分中的NDBARC层之化学增强交联，该负型光刻胶与该NDBARC层之光刻曝光部分皆变成不溶于显影剂。CN103733134ACN10374ACN103733134A权利要求书1/2页1.一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物，该物质组合物包含聚合物，该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分以及至少一个芳香族部分。2.权利要求1的物质组合物，进一步包含光酸产生剂。3.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个羧酸部分包括丙烯酸部分、甲基丙烯酸(MAA)部分、4-乙烯基苯甲酸部分、丙烯酸2-羧乙酯部分以及单-2-(甲基丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯部分中的至少一个。4.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个可交联脂肪族醇部分包括甲基丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯(HADMA)部分、甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)部分、以及甲基丙烯酸3-(2′-羟基乙氧基)-1-金刚烷基酯(HEADMA)部分中的至少一个。5.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个芳香族部分包括甲基丙烯酸9-蒽基甲酯(ANTMA)部分、羟基苯乙烯部分以及苯乙烯部分中的至少一个。6.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个芳香族部分包括至少一个发色团部分，该发色团部分吸收波长选自从100nm至400nm的波长范围的光。7.权利要求1的物质组合物，其中相对于该至少一个羧酸部分、该至少一个可交联脂肪族醇部分及该至少一个芳香族部分的所有摩尔百分比总和，该至少一个羧酸部分的摩尔百分比为从20%至70%，以及相对于该总和，该至少一个可交联脂肪族醇部分的摩尔百分比为从10%至70%。8.权利要求1的物质组合物，进一步包含溶剂，其中该聚合物溶于该溶剂。9.一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物，该物质组合物包含聚合物，该聚合物包括羧酸部分的m个重复单元、可交联脂肪族醇部分的n个重复单元以及芳香族部分的l个重复单元，其中该m、该n及该l的每个独立地为大于1的整数。10.权利要求1的物质组合物，其中该m、该n及该l的每个独立地为从2至1,000的整数。11.一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物，该物质组合物包含聚合物，该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分及至少一个芳香族部分，其中该至少一个羧酸部分包括丙烯酸部分、甲基丙烯酸(MAA)部分、4-乙烯基苯甲酸部分、丙烯酸2-羧乙酯部分以及单-2-(甲基丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯部分中的至少一个，其中该至少一个可交联脂肪族醇部分包括甲基丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯(HADMA)部分、甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)部分、及甲基丙烯酸3-(2′-羟基乙氧基)-1-金刚烷基酯(HEADMA)部分中的至少一个，以及其中该至少一个芳香族部分包括甲基丙烯酸9-蒽基甲酯(ANTMA)部分、羟基苯乙烯部分及苯乙烯部分中的至少一个。12.一种形成光刻结构