基板处理装置及基板处理方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115739522A(43)申请公布日2023.03.07(21)申请号202210509128.5H01L21/67(2006.01)(22)申请日2022.05.11H01L21/687(2006.01)(30)优先权数据2021-1429532021.09.02JP(71)申请人株式会社斯库林集团地址日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1(72)发明人柏野翔伍大宅宗明高村幸宏西冈贤太郎塩田明仁(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司11205专利代理师霍莉莉黄健(51)Int.Cl.B05C5/02(2006.01)B05B15/16(2018.01)权利要求书2页说明书14页附图8页(54)发明名称基板处理装置及基板处理方法(57)摘要本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。CN115739522ACN115739522A权利要求书1/2页1.一种基板处理装置，将处理液涂布在基板的表面上，且所述基板处理装置的特征在于，包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板相对地移动；喷嘴防护件，在所述狭缝喷嘴通过所述移动机构而相对于所述基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于所述狭缝喷嘴的前方侧，并与所述狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使所述狭缝喷嘴与所述喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过所述升降机构下降的所述喷嘴防护件的前端在所述基板的表面侧向上方突出并与阻碍所述处理液的涂布的突出物碰撞。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部在所述喷嘴防护件的前端与所述突出物碰撞时，基于对所述喷嘴防护件及所述狭缝喷嘴中的至少其中一者施加的应力或向上下方向的振动来探测所述喷嘴防护件与所述突出物的碰撞。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部具有测力传感器，所述测力传感器安装于所述喷嘴防护件及所述狭缝喷嘴中的至少其中一者并探测向上方施加的应力。4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部具有振动传感器，所述振动传感器安装于所述喷嘴防护件及所述狭缝喷嘴中的至少其中一者并探测上下方向的振动。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括防护件支撑部，所述防护件支撑部相对于所述狭缝喷嘴支撑所述喷嘴防护件的后端部，所述喷嘴防护件根据在与所述狭缝喷嘴一体地下降的中途所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物碰撞，而能够位移地由所述防护件支撑部支撑，所述碰撞探测部基于所述喷嘴防护件向上方的位移来探测所述喷嘴防护件与所述突出物的碰撞。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，所述喷嘴防护件在上下方向上滑动自如地由所述防护件支撑部支撑，所述碰撞探测部具有位置传感器，所述位置传感器根据所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物碰撞来探测所述喷嘴防护件向上方位移。7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，所述喷嘴防护件以所述后端部旋转自如地轴支撑于所述防护件支撑部的轴支点为中心摆动自如地由所述防护件支撑部支撑，所述碰撞探测部具有角度探测传感器，所述角度探测传感器根据所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物碰撞来探测所述喷嘴防护件绕所述轴支点摆动的角度。8.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括浮起部，所述浮起部利用由穿过设置于平台面的气体孔的气体流而形成于所述平台面上的压力气体层使所述基板浮起，所述狭缝喷嘴配置于所述平台面的上方，所述移动机构使利用所述浮起部从所述平台面浮起的所述基板以通过由所述狭缝喷2CN115739522A权利要求书2/2页嘴及所述喷嘴防护件与所述平台面夹持的涂布区域的方式移动，所述碰撞探测部基于所述涂布区域中的所述基板的浮起量的变化来探测所述喷嘴防护件与所述突出物的碰撞。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部具有测量所述浮起量的浮起量测量部，根据所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物碰撞来探测由所述浮起量测量部测量的所述浮起量的变化。10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部具有测量所述气体流的压力的压力测量部，探测与伴随所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物的碰撞的所述浮起量的