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基板处理装置及基板处理方法.pdf
2023-05-09
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本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(1)具备处理液罐(30)、第一循环配管(31)、过滤器(39)、泵(37)和控制部(3A)。第一循环配管(31)的上游端(31a)与处理液罐(30)连接,并且下游端(31b)与处理液罐(30)连接,使处理液循环。过滤器(39)配置于第一循环配管(31),捕捉处理液所含的颗粒。泵(37)配置于第一循环配管(31)。泵(37)具有旋转体(371),通过使旋转体(371)旋转来送出处理液。在驱动停止状态的泵(37)的情况下,控制部(3A)控制泵(37),以使旋
2023-05-09
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2023-05-09
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本发明提供基板处理方法和基板处理装置，能够缩短在使用多种处理气体对基板连续地实施多个处理时所需要的时间。在具有腔室（11）和向该腔室导入处理气体的处理气体导入管路（12）的导入管（19）的基板处理装置（10）中，在对自上方以第1层、第2层以及第3层的顺序层叠有第1层、第2层以及第3层的基板（S）连续地实施蚀刻处理时，在蚀刻第1层后，使置换气体流入到导入管中而将残留在导入管、腔室中的第1蚀刻气体挤出而排出，在蚀刻第2层后，使置换气体流入到导入管中而将残留在导入管、腔室中的第2蚀刻气体挤出而排出，在蚀刻第3层
2023-11-24
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本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。
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2023-06-02
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