一种镀膜设备及工艺.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115772655A(43)申请公布日2023.03.10(21)申请号202211315771.0(22)申请日2022.10.26(71)申请人卢成地址610000四川省成都市温江区柳城新华6组(72)发明人卢成王伟张勇军(74)专利代理机构成都其高专利代理事务所(特殊普通合伙)51244专利代理师贾波(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)C23C14/54(2006.01)F25D17/02(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图1页(54)发明名称一种镀膜设备及工艺(57)摘要本发明公开了一种镀膜设备及工艺，真空镀膜机设置有水箱水塔A、水箱水塔B、控制器、镀膜机、冷却水机组、纯水主机，以及多个电磁阀、水泵，多根管道，其能够构建两级供水体系，并利用“循环+冷冻”的模式对镀膜机进行水冷，且在进行控制时，基于联动的控制模式，使得水冷效果能够一直保持最优状态，并在不浪费水源的情况下，保障水冷效果；所述镀膜机（1）的冷却水管道入口连接冷却水机组出口侧，镀膜机（1）的冷却水管道出口连接供水系统，在镀膜机（1）上冷却水管道出口处设置有温度传感器（18），所述冷却水机组入口侧连接供水系统，控制器（12）分别连接冷却水机组、镀膜机（1）、供水系统及温度传感器（18）。CN115772655ACN115772655A权利要求书1/2页1.一种镀膜设备，其特征在于：包括镀膜机（1）、冷却水机组、供水系统及控制器（12），所述镀膜机（1）的冷却水管道入口连接冷却水机组出口侧，镀膜机（1）的冷却水管道出口连接供水系统，在镀膜机（1）上冷却水管道出口处设置有温度传感器（18），所述冷却水机组入口侧连接供水系统，控制器（12）分别连接冷却水机组、镀膜机（1）、供水系统及温度传感器（18）。2.根据权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述供水系统包括电磁阀A（7）、水泵A（8）、电磁阀B（9）、水塔A（10）、水位传感器A（11）、水位传感器B（13）、水塔B（14）、纯水主机（15）、电磁阀C（16）、水泵B（17）及多个管道，所述镀膜机（1）的冷却水管道出口通过设置有电磁阀B（9）的管道接入水塔A（10）的循环水回水口，所述水塔A（10）的循环水出口通过设置有水泵A（8）和电磁阀A（7）的管道连接冷却水机组入口侧；所述水塔A（10）的循环水入口通过设置有水泵B（17）和电磁阀C（16）的管道连接在水塔B（14）的循环水出口上，水位传感器A（11）设置在水塔A（10）上，水位传感器B（13）设置在水塔B（14）上，所述纯水主机（15）通过管道连接在水塔B（14）的进水口上；控制器（12）分别连接电磁阀A（7）、水泵A（8）、电磁阀B（9）、水位传感器A（11）、水位传感器B（13）、纯水主机（15）、电磁阀C（16）及水泵B（17）。3.根据权利要求2所述的一种镀膜设备，其特征在于：在所述水塔A（10）上，循环水回水口位置高度＞循环水入口位置高度＞循环水出口位置高度，且循环水出口设置在水塔A（10）的底部。4.根据权利要求2或3所述的一种镀膜设备，其特征在于：在所述水塔B（14）上，进水口的位置高度＞循环水出口位置高度，且循环水出口位于底部上方。5.根据权利要求2或3所述的一种镀膜设备，其特征在于：在设置所述电磁阀A（7）和水泵A（8）的管道上，水泵A（8）近水塔A（10）侧设置；在设置所述电磁阀C（16）和水泵B（17）的管道上，电磁阀C（16）近水塔B（14）侧设置。6.根据权利要求1或2或3所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述电磁阀A（7）、电磁阀B（9）、电磁阀C（16）皆采用流量调节阀。7.根据权利要求1或2或3所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述冷却水机组包括蒸发器（3）及设置在冷凝侧的膨胀阀（4）、冷凝器（5）、压缩机（6），水塔A（10）的循环水出口与冷却水机组入口侧相连的管道端口接入蒸发器（3）的冷冻水入口，镀膜机（1）的冷却水管道入口与冷却水机组（26）出口侧相连的管道端口接入蒸发器（3）的冷冻水出口。8.一种镀膜制冷工艺，基于如权利要求1~7任一项所述的一种镀膜设备实现，其特征在于：包括下述步骤：1）控制器（12）启动纯水主机（15）为水塔B（14）供水，直至能够为水塔A（10）供水的最低量，而后打开电磁阀C（16），启动水泵B（17）；2）水泵B（17）将水塔B（14）内的纯水从循环水出口泵入到水塔A（10）内直至符合进行水冷的水量后关闭水泵B（17），纯水主机（15）为水塔B（14）供水至最高限水位后停止为水塔B（14）供水；3）开机启动镀膜机（1）工作，打开电磁阀A（7）、电磁阀B（9），关闭电磁阀C（16）；4）控制器（12