一种沉积镀膜设备及工艺.pdf

本发明公开了光伏领域内的一种沉积镀膜设备及工艺,包括外密闭腔室,内密闭反应腔结构,内密闭反应腔升降机构,传送机构,气体控制系统。其中1.采用导磁屏蔽材料的内外双腔体结构,能多层有效的屏蔽地效磁场及周边电磁场,获取设备内部稳定反应场,进而提高镀膜品质,提高沉积薄膜的均匀一致性。2.腔中腔的设计高效精准的控制气体沉积反应区域,降低反应气体外泄污染设备其他部位,降低开腔检修保养设备次数,提高设备利用率,极大降低内腔的反应气体的使用量降低生产成本。反应腔室温度控制更精准,降低设备能耗。3.内反应腔体升降,替代托盘升降。避免沉积工件因抖动造成的破损和移位,从而提高设备生产良品率。