一种镀膜设备及镀膜方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105887172A(43)申请公布日2016.08.24(21)申请号201610202869.3(22)申请日2016.03.31(71)申请人成都国珈星际固态锂电科技有限公司地址611730四川省成都市高新西区天勤路839号(72)发明人彭晓丽向勇牟成旭夏立蒲万锦贺金味苏兴(74)专利代理机构四川君士达律师事务所51216代理人芶忠义(51)Int.Cl.C25D17/00(2006.01)C23C18/00(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图6页(54)发明名称一种镀膜设备及镀膜方法(57)摘要本发明涉及溶液镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜设备，包括储备池、工作池、过滤池、提拉机构和控制单元，所述储备池用于配备合格镀膜液并将合格镀膜液流入工作池，工作池用于进行镀膜作业并将不合格镀膜液流入过滤池，过滤池接收来自工作池的不合格镀膜液并进行过滤处理成合格镀膜液后重新输送至工作池，提拉机构设置在工作池中，用于对工件进行上下提拉进行镀膜作业，工作池中设置有对温度、黏度、电导率、配比进行监控的控制单元。与现有技术相比，本发明的镀膜设备可以及时检测出镀膜液的性质变化，并且能及时改变镀膜液的相关性质，使镀膜液的性质保持在合格状态进行镀膜，保证镀膜质量良好。CN105887172ACN105887172A权利要求书1/1页1.一种镀膜设备，其特征在于：包括储备池、工作池、过滤池、提拉机构和控制单元，所述储备池用于配备合格镀膜液并将合格镀膜液流入工作池，工作池用于进行镀膜作业并将不合格镀膜液流入过滤池，过滤池接收来自工作池的不合格镀膜液并进行过滤处理成合格镀膜液后重新输送至工作池，提拉机构设置在工作池中，用于对工件进行上下提拉进行镀膜作业，工作池中设置有对温度、黏度、电导率、配比进行监控的控制单元。2.如权利要求1中所述的镀膜设备，其特征在于：所述镀膜设备进一步包括补料池和循环池，补料池与循环池相连通，补料池提供合格的镀膜液进入循环池。3.如权利要求2中所述的镀膜设备，其特征在于：所述提拉机构包括水平支撑杆和镀膜基体，水平支撑杆用于提拉镀膜基体，控制单元将镀膜基体的提拉速度控制在0.01mm/s～10cm/s。4.如权利要求2中所述的镀膜设备，其特征在于：所述提拉机构进一步包括滑轮和卷料镀膜基体，滑轮用于传动卷料镀膜基体，控制单元将卷料镀膜基体的传动速度控制在10cm/s内。5.如权利要求4中所述的镀膜设备，其特征在于：所述工作池内设置一个或多个滑轮，多个滑轮在镀膜液液面上下间隔设置。6.一种使用权利要求1所述设备进行的镀膜方法，其特征在于：包括步骤S1：在储备池中配制合格的镀膜液；步骤S2：提拉机构在工作池中上下反复平动，对待镀膜工件进行镀膜；步骤S3：镀膜控制装置对工作池中的镀膜液性质进行检测控制及步骤S4：当检测到工作池中镀膜液不合格时，则控制工作池中不合格镀膜液进入过滤池，经过过滤池过滤处理成合格镀膜液后重新进入工作池中。7.如权利要求6中所述的镀膜方法，其特征在于：所述控制单元将镀膜液温度控制在-40℃～40℃。8.如权利要求6中所述的镀膜方法，其特征在于：所述控制单元将镀膜液的黏度控制在200cp～650cp。9.如权利要求6中所述的镀膜方法，其特征在于：所述控制单元将镀膜液的导电率控制在1mS/cm～7mS/cm。10.如权利要求6中所述的镀膜方法，其特征在于：所述镀膜液的组分包括高分子材料、有机溶剂和电解液，所述控制单元将高分子材料、有机溶剂和电解液之间的比例控制在高分子材料：有机溶剂：电解液＝(2％～12％)：(30％～98％)：(4％～20％)。2CN105887172A说明书1/6页一种镀膜设备及镀膜方法【技术领域】[0001]本发明涉及溶液镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜设备及镀膜方法。【背景技术】[0002]溶液镀膜是指在溶液中利用化学反应或电化学等化学方法在基体表面沉积薄膜的技术。溶液镀膜技术不需要真空条件，设备简单，可以在各种基体表面成膜，原料易得，在电子元器件、各种表面涂覆工艺与装饰行业等方面广泛应用。溶液镀膜技术主要包括溶胶凝胶技术、化学反应沉积技术、阳极氧化技术、电镀技术。其中溶胶凝胶技术因其易于控制薄膜组分，可在分子水平控制掺杂，工艺简单，可获得理想厚度和组分。[0003]涂胶方法是溶胶凝胶技术中的关键技术之一，主要方式为旋涂法与浸渍提拉法。旋涂法主要是采用电机驱动水平放置的平面镀膜件，将附着于水平镀膜件表面的镀膜液在离心力作用下平铺于镀膜件表面，随着镀膜液中溶剂挥发，在镀膜件表面生长一层凝胶膜，再进行后期处理，便得到所需薄膜。提拉法是将镀膜件浸渍于镀膜液中，然后通过一定的速度，将镀膜件从镀膜液中向上提拉出镀膜液，镀膜