涂覆系统和涂覆方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107107101A(43)申请公布日2017.08.29(21)申请号201580073661.X耶伦·安东尼乌斯·施梅尔廷克(22)申请日2015.12.16莱昂纳德斯·玛丽亚·图宁(30)优先权数据(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限14198615.82014.12.17EP公司11227代理人蔡胜有苏虹(85)PCT国际申请进入国家阶段日2017.07.17(51)Int.Cl.B05D3/04(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据B05D7/00(2006.01)PCT/NL2015/0508682015.12.16B05D1/26(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2016/099262EN2016.06.23(71)申请人荷兰应用自然科学研究组织TNO地址荷兰海牙(72)发明人伊凯·格克·德弗里斯桑迪普·乌尼克里希南威廉默斯·胡贝图斯·曼德斯权利要求书2页说明书11页附图9页(54)发明名称述第一操作模式的第二操作模式，其中所述供应涂覆系统和涂覆方法设施(152，152’)将所述可固化液体有机前体供(57)摘要应至所述涂覆装置(12)。提供了一种涂覆系统(1)，包括涂覆室(20)，在所述涂覆室(20)中布置有用于向基底(S)提供有机涂层的涂覆设备(10)。所述涂覆设备(10)包括用于沉积用于所述有机涂层的无溶剂的可固化液体有机前体的涂覆装置(12)和用于通过将能量供应至所述液体有机前体使沉积在所述基底(S)上的所述液体有机前体固化的固化单元(14)。所述涂覆系统还包括涂覆时将所述涂覆室内的压力保持在低于1毫巴下的真空泵(30)。供应设施(152，152’)用于将所述可固化液体有机前体从储器可控地供应至所述涂覆装置(12)。所述供应设施(152，152’)具有用于接收来自所述储器的可固化液体有机前体的入口(1510)。所述储器的底部(150B)的位置布置在所述入口(1510)上方的高度(H1)处。所述涂覆系统具有第一操作模式，其中将待供应至所述涂覆设备的可固化液体有机前体暴露于具有第一压力值等于CN107107101A或低于室压力值的压力的真空；以及具有接着所CN107107101A权利要求书1/2页1.一种涂覆系统(1)，包括涂覆室(20)，在所述涂覆室(20)中布置有用于向基底(S)提供有机涂层的涂覆设备(10)，所述涂覆设备(10)包括用于沉积用于所述有机涂层的无溶剂的液体可光聚合的有机前体的涂覆装置(12)和用于通过将能量供应至所述有机前体使沉积在所述基底(S)上的所述有机前体固化的固化单元(14)，所述涂覆系统还包括用于在所述涂覆系统的操作模式中将所述涂覆室内的压力保持在小于1毫巴的室压力值下的真空泵(30)、用于沿着所述涂覆设备运输所述基底的运输设施(141)、用于所述液体可光聚合的有机前体的储器(150)以及用于将所述液体可光聚合的有机前体从所述储器可控地供应至所述涂覆装置的供应设施(152，152’)，所述供应设施(152，152’)具有用于接收来自所述储器的液体可光聚合的有机前体的入口(1510)，其中所述储器的底部(150B)位置布置在所述入口(1510)上方的高度(H1)处，所述涂覆系统具有第一操作模式，其中将待供应至所述涂覆设备的液体可光聚合的有机前体暴露于具有等于或低于室压力值的第一压力值的压力的真空；以及具有接着所述第一操作模式的第二操作模式，其中所述供应设施(152，152’)将所述液体可光聚合的有机前体供应至所述涂覆装置，所述涂覆包括在所述涂覆室中用于向所述基底提供无机涂层的另外的涂覆设备(40)，其中所述运输设施(141)还将所述基底从所述涂覆设备(30)运输至所述另外的涂覆设备(40)或从所述另外的涂覆设备(40)运输至所述涂覆设备(30)。2.涂覆系统(1)，其中所述第一压力的值在0.001毫巴至0.1毫巴的范围内。3.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆系统，还包括加压气体供应(157)，其中将所述加压气体供应布置成在所述储器(150)内以100毫巴至300毫巴范围内的压力用惰性气体施加气体压力。4.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆系统，包括另外的储器(154)、泵(1501)，所述泵(1501)被设置成将所述液体可光聚合的有机前体(C)从所述另外的储器(154)泵送至所述储器(150)，其中所述供应设施(152’)布置在所述涂覆装置(12)上方的第二高度(H2)处，其中所述另外的储器(154)的底部(154B)布置在所述泵(1501)的入口(1520)上方的第三高度(H3)处，其中所述第三高度(H3)小于所述第一高度(H1)和所述第二高度(H2)的总和。5.