基板表面缺陷检测装置、图像畸变校正方法和装置以及基板表面缺陷检测设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107845583A(43)申请公布日2018.03.27(21)申请号201610826112.1(22)申请日2016.09.18(71)申请人中芯国际集成电路制造（上海）有限公司地址201203上海市浦东新区张江路18号申请人中芯国际集成电路制造（北京）有限公司(72)发明人伍强熊威李璇(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人刘倜(51)Int.Cl.H01L21/66(2006.01)权利要求书4页说明书12页附图9页(54)发明名称基板表面缺陷检测装置、图像畸变校正方法和装置以及基板表面缺陷检测设备(57)摘要本发明公开了一种基板表面缺陷检测装置和设备、图像畸变校正方法和装置，涉及半导体技术领域。其中，所述基板表面缺陷检测装置包括：光波导，用于接收光并引导光至所述基板的待检测表面，所述光波导具有与所述基板相邻的第一表面和与第一表面相对的第二表面；至少一个微透镜阵列，层叠地设置在所述光波导的与所述基板相对的一侧，每一个微透镜阵列都包括以阵列形式布置的多个微透镜，用于接收并会聚来自于所述待检测表面的经过所述光波导的光；成像部件，用于接收来自于所述微透镜的光以进行成像。本发明利用微透镜阵列来检测基板表面缺陷可以提高缺陷的检测速度。CN107845583ACN107845583A权利要求书1/4页1.一种基板表面缺陷检测装置，其特征在于，包括：光波导，用于接收光并引导光至所述基板的待检测表面，所述光波导具有与所述基板相邻的第一表面和与第一表面相对的第二表面；至少一个微透镜阵列，层叠地设置在所述光波导的与所述基板相对的一侧，每一个微透镜阵列都包括以阵列形式布置的多个微透镜，用于接收并会聚来自于所述待检测表面的经过所述光波导的光；成像部件，用于接收来自于所述微透镜的光以进行成像。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述至少一个微透镜阵列包括叠置的第一微透镜阵列和第二微透镜阵列；所述至少一个微透镜阵列被配置为其每一个微透镜阵列中的微透镜的光轴与另一微透镜阵列中的相应微透镜的光轴彼此对准。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述成像部件包括多个成像单元，所述成像单元包括多个像素，每个成像单元与一个微透镜对应来接收通过该微透镜的光的至少一部分。4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：多个光约束部件，分别位于对应的成像单元与微透镜之间，用于至少允许来自对应微透镜的反映特定视场的光通过并进入对应的成像单元。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述光约束部件包括挡光板。6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述光约束部件包括：柱形光学件，其包括受光面和出光面；以及挡光板，其包围柱形光学件的除受光面和出光面以外的外围表面。7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微透镜阵列还包括：在微透镜边缘的支承部件，其能够用于支承与其邻接的微透镜。8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，其中所述至少一个微透镜阵列包括叠置的第一微透镜阵列和第二微透镜阵列，并且所述第一微透镜阵列的支承部件与所述第二微透镜阵列的支承部件彼此一一对准。9.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，其中所述支承部件由与微透镜相同的材料形成，所述装置还包括：在支承部件的下表面的阻挡层，用于阻挡光进入支承部件。10.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，其中所述支承部件由与微透镜相同的材料形成，所述装置还包括：在支承部件下的光波导的表面上的阻挡层，用于阻挡光进入支承部件。11.根据权利要求9或10所述的装置，其特征在于，所述阻挡层包括金属镀层。12.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微透镜包括平凸镜。13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，所述平凸镜的曲面上点的Z方向的坐标是对应的平面投影点在平面上距离原点的距离r的2阶至4阶函数。2CN107845583A权利要求书2/4页14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述平凸镜的曲面由以下公式来定义：其中，Z是平凸镜的曲面上的点的Z方向的坐标，R是球面的曲率半径，K是圆锥常数，α1是二阶系数，α2是四阶系数。15.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光波导包括第一入射面和第二入射面，分别位于所述光波导的两侧；所述光包括第一光和第二光，所述第一光和所述第二光分别从所述第一入射面和所述第二入射面进入所述光波导。16.根据权利要求15所述的装置，其特征在于，所述第一入射面和所述第二入射面相对于所述第一表面是倾斜的。17.根据权利要求15所述的装置，其特征在于，还包括：激光光源，用于产生激光光束；分光镜，用于将所述激光光束分光，以产生分离的第一部分光和第二部分光；以及用