一种基板表面信息检测装置以及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105700206A(43)申请公布日2016.06.22(21)申请号201610087753.X(22)申请日2016.02.16(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人北京京东方光电科技有限公司(72)发明人范宇光李京鹏李建王世超田立民(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人彭瑞欣陈源(51)Int.Cl.G02F1/13(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图6页(54)发明名称一种基板表面信息检测装置以及方法(57)摘要本发明公开了一种基板表面信息检测装置和方法，喷淋源向待测基板表面均匀地喷洒液滴或在待测基板表面形成液体流，图像传感器用于记录并传输待检测基板表面的液体图像信息。当待检测基板部分区域不平整或者由于制作过程中出现金属残留或者异物掉落以及油污等污染的情况，则基板表面部分区域会因为上述情况具有不同的表面张力而使液体在基板表面呈现出不同的状态，通过分析图像传感器记录的液体图像信息，可以获得基板表面信息。本发明提供的基板表面信息检测装置和方法，能够预防和避免PI涂覆前基板表面的不良，对于缩短生产时间，提高生产效率改善产品良率有积极意义。CN105700206ACN105700206A权利要求书1/2页1.一种基板表面信息检测装置，其特征在于，包括，喷淋源，图像传感器，其中，所述喷淋源用于向待测基板表面均匀地喷洒液滴或在待测基板表面形成液体流，所述图像传感器用于记录并传输待检测基板表面的液体图像信息。2.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，还包括图像判断处理单元，所述图像判断处理单元用于接收所述图像传感器传输的液体图像信息，并根据所述液体图像信息判断所述基板的表面信息，所述表面信息包括基板表面至少部分区域内的平整度和/或清洁度和/或亲疏水程度。3.如权利要求2所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述图像判断处理单元是用于根据所述液体图像信息中液滴的分布和/或大小是否均匀来判断所述基板表面信息；或者，是用于根据所述液体图像信息中的所述液体流形成的液体膜表面的平整度来得到基板表面信息。4.如权利要求2所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述图像判断处理单元还用于根据该液体图像信息确定所述基板表面内平整度和/或清洁度和/或亲疏水程度超出预设范围的区域在所述基板表面内的位置。5.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述液滴的直径范围为10-1μm到103μm。6.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述液滴的直径范围为1μm到30μm。7.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述液体流的流速范围为0.1mm/s到100mm/s。8.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述液体流的流速范围为1mm/s-10mm/s。9.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，所述液滴或液体流的成分为去离子水。10.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置，其特征在于，基板倾斜于水平方向角度为3°-10°地放置在提供液体流的所述喷淋源的下方。11.一种基板表面信息检测方法，其特征在于，包括，向水平放置的待测基板上均匀地喷洒液滴，或者，在待测基板表面形成液体流；根据所述待测基板表面的液体图像信息判断所述待测基板的表面信息，所述表面信息包括基板表面至少部分区域内的平整度和/或清洁度和/或亲疏水程度。12.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，在根据所述液体图像信息判断所述待测基板的表面信息的步骤前，还包括存储所述待测基板表面的液体图像信息。13.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，其中，所述在待测基板上形成液体流的步骤中，所述基板呈倾斜于水平方向角度为3°-10°放置。14.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，其中，所述向水平放置的待测基板上均匀地喷洒液滴的步骤中，所述液滴的直径范围为10-1μm到103μm。15.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，所述液滴的直径范围为1μm到30μm。16.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，其中，所述喷淋源提供液体流的步骤中，所述液体流流速在0.1mm/s到100mm/s范围内。2CN105700206A权利要求书2/2页17.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，所述液体流流速在1mm/s-10mm/s范围内。18.如权利要求11所述的基板表面信息检测方法，其特征在于，根据所述液体图像信息判断所述待测基板的表面信息的步骤中，包括通过分析液体图像信息中基板表面液滴的分布间距和/或大小是否均匀来得到基板表面信息，或者，通过检