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基板处理装置和基板处理方法.pdf
2023-06-10
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醉香****mm
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基板处理装置和基板处理方法.pdf
本公开的一个方式的基板处理装置(1)具备控制部(61),所述控制部(61)并行地执行第一制程和第二制程,所述第一制程和第二制程是包括从交接部(14)向液处理部(17)搬送基板的第一搬送处理、通过液处理部(17)进行的液处理、从液处理部(17)向干燥处理部(18)搬送基板的第二搬送处理以及通过干燥处理部(18)进行的干燥处理的两个制程,其中,至少液处理及干燥处理的处理时间在所述第一制程和与第二制程中互不相同。当在执行针对多个基板中的第一基板的第一制程的期间开始执行针对多个基板中的第二基板的第二制程的情况下,
2023-06-06
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基板处理装置和基板处理方法.pdf
提供基板处理装置和基板处理方法，该装置包括：具有加工空间的加工容器；在加工空间中支承基板并旋转基板的支承单元；将加工液供应到由支承单元支承的基板的液体供应单元；以及加热基板的加热单元。支承单元包括：旋转自旋卡盘的驱动器；安装在自旋卡盘上以与之一起旋转的卡盘销；在卡盘销与基板的侧部接触的接触位置与卡盘销与基板的侧部间隔开的打开位置之间移动卡盘销的卡盘销移动单元。卡盘销移动单元包括：联接到卡盘销并与之一起旋转的第一驱动模块和面向第一驱动模块且不与自旋卡盘一起旋转的第二驱动模块，第一驱动模块包括第一磁性体，第二
2023-06-01
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基板处理装置和基板处理方法.pdf
本发明提供基板处理装置和基板处理方法。针对基板处理装置提高生产率且省空间。以具备如下构件的方式构成装置：送入送出区块；处理站，在其与送入送出区块之间输送基板，其相对于送入送出区块设置于左右的一侧；中继区块，其相对于处理站设置于左右的一侧，在其与处理站之间输送基板；处理区块，其左右排列地设置有多个而构成处理站，且均具备：处理模块，其对基板进行处理；和主输送机构，其相对于该处理模块交接基板；以及旁通输送机构，其在每个左右排列的处理区块设置，以便独立于主输送机构地在左右的区块之间输送基板。作为利用旁通输送机构输
2023-06-03
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公开了一种基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理方法包括将含有单体物质的处理液涂覆到要清洁的基板上,通过向处理液照射光并使单体物质聚合以将处理液固化为清洁膜,并去除清洁膜。
2023-06-10
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基板处理装置和基板处理方法.pdf
一种基板处理装置和基板处理方法。在基板处理方法中，向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液，对基板进行处理，即使是该基板处理方法包括使基板低速旋转的工序的情况下，也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中，在正型显影处理之际，使分配部上升，将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导，在负型显影处理之际，使分配部下降，将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶，以使在负型显影处理之际负型显影液
2023-06-10
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