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基板处理装置和基板处理方法.pdf
2023-06-06
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小寄****淑k
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基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法.pdf
本发明提供一种可靠地检测有无被基板处理装置处理的基板的基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法。液处理装置(1)包括：基板保持旋转部(23)，其具有旋转板(23P)和基板支持部(51)；以及液体供给部(24)。旋转板(23P)与旋转轴(23S)相连结，旋转轴(23S)的中央部经由旋转板(23P)的开口(29)向外方暴露。在该旋转轴(23S)的中央部安装有环状的回归反射片(30)。自斜上方向回归反射片(30)照射激光，利用激光投射接收部(26a)接收来自回归反射片(30)的反射光，并利用基板检测部(17a)
2023-06-10
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2023-06-01
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本发明提供基板处理装置和基板处理方法。针对基板处理装置提高生产率且省空间。以具备如下构件的方式构成装置：送入送出区块；处理站，在其与送入送出区块之间输送基板，其相对于送入送出区块设置于左右的一侧；中继区块，其相对于处理站设置于左右的一侧，在其与处理站之间输送基板；处理区块，其左右排列地设置有多个而构成处理站，且均具备：处理模块，其对基板进行处理；和主输送机构，其相对于该处理模块交接基板；以及旁通输送机构，其在每个左右排列的处理区块设置，以便独立于主输送机构地在左右的区块之间输送基板。作为利用旁通输送机构输
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一种基板处理装置和基板处理方法。在基板处理方法中，向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液，对基板进行处理，即使是该基板处理方法包括使基板低速旋转的工序的情况下，也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中，在正型显影处理之际，使分配部上升，将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导，在负型显影处理之际，使分配部下降，将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶，以使在负型显影处理之际负型显影液
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基板处理方法具有下述(A)～(C)。(A)在水平地保持基板并使其旋转的状态下,从包括与所述基板的下表面中央相对配置的多个喷嘴的喷嘴单元,向所述基板的下表面依次供给酸性或碱性的第1化学溶液、和纯水。(B)水平地保持所述基板并使其旋转,使所述基板干燥。(C)在供给所述第1化学溶液后且所述基板干燥前,从所述喷嘴单元的一所述喷嘴喷出纯水,在所述喷嘴单元之上形成覆盖所述喷嘴单元的全部的所述喷嘴的纯水的清洗膜。
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