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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107785292A(43)申请公布日2018.03.09(21)申请号201710733231.7(22)申请日2017.08.24(30)优先权数据2016-1632432016.08.24JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人西畑广福田昌弘田中公一朗甲斐亚希子(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277代理人刘新宇张会华(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/027(2006.01)G03F7/30(2006.01)权利要求书2页说明书11页附图12页(54)发明名称基板处理装置和基板处理方法(57)摘要一种基板处理装置和基板处理方法。在基板处理方法中,向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液,对基板进行处理,即使是该基板处理方法包括使基板低速旋转的工序的情况下,也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中,在正型显影处理之际,使分配部上升,将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导,在负型显影处理之际,使分配部下降,将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶,以使在负型显影处理之际负型显影液不被向正型用回收口引导,并且分配部的上表面的角度形成得比台阶的形成上部的倾斜面的角度大。CN107785292ACN107785292A权利要求书1/2页1.一种基板处理装置,其向被支承成能够绕铅垂轴线旋转的基板供给第1处理液或第2处理液,对所述基板进行处理,并且利用回收杯对来自所述基板的处理液进行回收,其特征在于,所述回收杯具备:杯主体,其具有:环状的外周壁,其内径比所述基板的直径大;环状的内部构造体,其由朝向外周侧逐渐变低的第1倾斜面形成上端的外周面;底壁,其在内周侧设有所述第1处理液的回收口,在外周侧设有所述第2处理液的回收口;可动杯,其在上端具有由朝向外周侧逐渐变低的第2倾斜面形成上表面的分配部,并且设置成能够在所述杯主体的所述外周壁与所述内部构造体之间上下运动,通过使该可动杯上升,将所述第1处理液从所述分配部与所述内部构造体之间向所述第1处理液的回收口引导,通过使所述可动杯下降,将所述第2处理液从所述分配部与所述外周壁之间向所述第2处理液的回收口引导,所述杯主体在所述第1倾斜面的外周侧端具有台阶,在所述可动杯下降后,所述分配部的内周侧端落入到所述台阶上,所述分配部的上表面比所述台阶的形成上侧的面低,所述分配部的所述第2倾斜面的角度比所述第1倾斜面的角度大。2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述分配部的所述第2倾斜面的外周侧的倾斜角度比内周侧的倾斜角度大。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,所述分配部的内周侧端以朝向内周侧逐渐变薄的方式形成。4.根据权利要求1~3中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,所述杯主体具有:凹处,其形成于所述第1倾斜面的比所述台阶靠内周侧的位置;连通路径,其将该凹处和排液路径连通。5.根据权利要求1~4中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,该基板处理装置在所述第1倾斜面的比所述台阶靠内周侧的位置具有弹性构件,该弹性构件具有与所述第1倾斜面连续的上表面,并且朝向外周侧延伸,覆盖所述可动杯下降后的所述分配部的内周侧端的上方。6.一种基板处理方法,在该基板处理方法中,向被支承成能够绕铅垂轴线旋转的基板供给第1处理液或第2处理液,对所述基板进行处理,并且利用回收杯对来自所述基板的处理液进行回收,其特征在于,所述回收杯具备:杯主体,其具有:环状的外周壁,其内径比所述基板的直径大;环状的内部构造体,其由朝向外周侧逐渐变低的第1倾斜面形成上端的外周面;底壁,其在内周侧设有所述第1处理液的回收口,在外周侧设有所述第2处理液的回收口;可动杯,其在上端具有由朝向外周侧逐渐变低的第2倾斜面形成上表面的分配部,并且设置成能够在所述杯主体的所述外周壁与所述内部构造体之间上下运动,所述杯主体在所述第1倾斜面的外周侧端具有台阶,所述分配部的所述第2倾斜面的角度比所述第1倾斜面的角度大,在利用所述第1处理液对所述基板进行处理之际,该基板处理方法包括如下工序:2CN107785292A权利要求书2/2页使所述可动杯上升,使所述分配部的内周侧端位于比所述基板靠上方的位置;向所述基板供给所述第1处理液;使所述基板旋转,将该基板上的所述第1处理液从所述分配部与所述内部构造体之间向所述第1处理液的回收口引导,在利用所述第2处理液对所述基板进行处理之际,该基板处理方法包括如下工序:使所述可动杯下降,使所述分配部的内周侧端落入到所述台