基板处理装置和基板处理方法.pdf
玉军****la
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基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法.pdf
本发明提供一种可靠地检测有无被基板处理装置处理的基板的基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法。液处理装置(1)包括:基板保持旋转部(23),其具有旋转板(23P)和基板支持部(51);以及液体供给部(24)。旋转板(23P)与旋转轴(23S)相连结,旋转轴(23S)的中央部经由旋转板(23P)的开口(29)向外方暴露。在该旋转轴(23S)的中央部安装有环状的回归反射片(30)。自斜上方向回归反射片(30)照射激光,利用激光投射接收部(26a)接收来自回归反射片(30)的反射光,并利用基板检测部(17a)
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一种基板处理装置和基板处理方法。在基板处理方法中,向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液,对基板进行处理,即使是该基板处理方法包括使基板低速旋转的工序的情况下,也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中,在正型显影处理之际,使分配部上升,将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导,在负型显影处理之际,使分配部下降,将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶,以使在负型显影处理之际负型显影液
基板处理装置和基板处理方法.pdf
本发明提供基板处理装置和基板处理方法。对于具备间距变换机构的基板处理装置削减基板的交接次数。基板处理装置包括:基板保持部,其将多个基板互相平行地以第1等间距保持;基板输送装置,其自基板收纳容器将以第2等间距收纳的多个基板一起取出;以及移载机构,其自基板输送装置接收以第2等间距排列的基板,并将间距转换成第1等间距,将间距转换完成的基板向基板保持部传递。移载机构具有:间距转换单元,其具有多个卡盘和将卡盘彼此之间的间隔在第1等间距与第2等间距之间变更的间距变换机构;以及移动机构,其使间距转换单元在基板输送装置与
基板处理装置和基板处理方法.pdf
本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提高基板处理装置的生产率。装置构成为包括:载体模块;第1处理模块,其由互相层叠的第1下侧处理模块、第1上侧处理模块构成;第2处理模块,其由互相层叠的第2下侧处理模块、第2上侧处理模块构成;中继模块,其包括升降输送机构;以及旁路输送机构,其在作为所述上侧处理模块和下侧处理模块中的一者的旁路输送通路形成模块设于每个第1处理模块、第2处理模块,以与该旁路输送通路形成模块的主输送机构一起形成前进路径或返回路径的方式进行动作,在该旁路输送通路形成模块,该旁路输送机构使得能够利用
基板处理装置和基板处理方法.pdf
公开了一种基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理方法包括将含有单体物质的处理液涂覆到要清洁的基板上,通过向处理液照射光并使单体物质聚合以将处理液固化为清洁膜,并去除清洁膜。