基板处理装置和基板处理方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115910878A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202210981804.9(22)申请日2022.08.16(30)优先权数据2021-1329102021.08.17JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人井手康盛饭田成昭松下一也(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277专利代理师刘新宇张会华(51)Int.Cl.H01L21/677(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书17页附图17页(54)发明名称基板处理装置和基板处理方法(57)摘要本发明提供基板处理装置和基板处理方法。针对基板处理装置提高生产率且省空间。以具备如下构件的方式构成装置：送入送出区块；处理站，在其与送入送出区块之间输送基板，其相对于送入送出区块设置于左右的一侧；中继区块，其相对于处理站设置于左右的一侧，在其与处理站之间输送基板；处理区块，其左右排列地设置有多个而构成处理站，且均具备：处理模块，其对基板进行处理；和主输送机构，其相对于该处理模块交接基板；以及旁通输送机构，其在每个左右排列的处理区块设置，以便独立于主输送机构地在左右的区块之间输送基板。作为利用旁通输送机构输送基板的输送路径的旁通输送路径彼此的高度不同，且在俯视时该旁通输送路径的局部相互重叠。CN115910878ACN115910878A权利要求书1/2页1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具备：送入送出区块，在该送入送出区块进行基板的送入和送出；处理站，在该处理站与所述送入送出区块之间输送所述基板，该处理站相对于该送入送出区块设置于左右的一侧；中继区块，其相对于所述处理站设置于左右的一侧，在该中继区块与该处理站之间输送所述基板；处理区块，其左右排列地设置有多个而构成所述处理站，且多个处理区块均具备：处理模块，其对所述基板进行处理；和主输送机构，其相对于该处理模块交接所述基板；以及旁通输送机构，其在每个左右排列的所述处理区块设置，以便独立于所述主输送机构地在左右的区块间输送基板，作为利用所述旁通输送机构输送基板的输送路径的旁通输送路径彼此的高度不同，并且，在俯视时，该旁通输送路径的局部相互重叠。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理区块从左右的一方朝向另一方按照第1处理区块、第2处理区块、第3处理区块的顺序设置有至少3个，若将所述旁通输送机构的所述旁通输送路径分别设为第1旁通输送路径、第2旁通输送路径、第3旁通输送路径，则所述第2旁通输送路径的左端部在俯视时与所述第1旁通输送路径和所述第3旁通输送路径中的一者重叠，所述第2旁通输送路径的右端部在俯视时与所述第1旁通输送路径和所述第3旁通输送路径中的另一者重叠，所述第1旁通输送路径和所述第3旁通输送路径相对于所述第2旁通输送路径位于上方或下方。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置设置有基板载置部，该基板载置部相对于所述旁通输送路径的端部升降而相对于所述旁通输送机构交接所述基板，并且载置该基板。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述旁通输送机构具备：基体，其设置于所述处理区块；移动体，其相对于所述基体左右移动；以及基板支承体，其用于支承所述基板，并相对于所述移动体左右移动。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理模块左右排列地设置有多个，所述主输送机构具备在俯视时设置于该多个处理模块之间的柱，所述旁通输送路径包括前后方向的输送路径，且是使该基板绕过所述柱的旁通路径。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，在所述基体和所述移动体中的一者设置有用于引导所述支承体的前后方向上的移动和左右方向上的移动的引导构件。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述引导构件是弯曲的轨道，2CN115910878A权利要求书2/2页所述基板支承体沿着所述弯曲的轨道移动，形成所述旁通路径。8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述基体和所述移动体中的设置有所述引导构件那一侧设置有：连接部，其与该引导构件连接，能够与所述基板支承体一起在左右方向上且在前后方向上移动；以及移动构件，其与所述连接部连接，并且，能够在左右方向上移动，在所述连接部和所述移动构件中的一者设置有在前后方向上延伸的轨道部，以便使该一者相对于另一者前后滑动。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，所述在前后方向上延伸的轨道部设置于所述连接部。10.根据权利要求5～9中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述旁通输送路径包括：两个第1区域，其在左右方向上且在前后方向上输送所述基板；以及第2区