一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115852321A(43)申请公布日2023.03.28(21)申请号202211581496.7(22)申请日2022.12.09(71)申请人杭纳半导体装备（杭州）有限公司地址310000浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号信息港五期一号楼8309(72)发明人王正安来华杭谢斌斌朱冰冰顾子莺李建镇(74)专利代理机构长沙国科天河知识产权代理有限公司43225专利代理师邱轶(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C14/56(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法(57)摘要本申请涉及一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法，其中卷对卷镀膜设备包括多个主辊和多个靶材，其中多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面，多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。相比于现有的卷对卷镀膜设备，本发明相当于将圆形腔室拉长，不仅极大提高了设备的兼容性，还因为将单主辊结构的集中拉力形式分解为多个小的拉力，大大降低了对基材的局部拉力，避免了超薄基材的形变；此外，由于靶材和主辊的交替设置，实现直接在同一个腔室中对基材的正反面同时镀膜，同时将单主辊的连续镀膜变成多主辊和多靶材的间隔镀膜，避免了镀膜时基材的温度积累，实现了低/常温镀膜。CN115852321ACN115852321A权利要求书1/1页1.一种卷对卷镀膜设备，其特征在于，所述设备包括：多个主辊和多个靶材；所述多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面；所述多个靶材以与所述多个主辊相反的方式交替设置在所述待镀膜基材的正反两面。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，各个所述主辊内部包含预设温度的液体；各个所述主辊内部的液体的预设温度不尽相同。3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，各个所述主辊通过对应的步进电机进行转速控制。4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括放卷辊和收卷辊；所述多个主辊和多个靶材设置在所述放卷辊和所述收卷辊之间。5.根据权利要求4设备的设备，其特征在于，所述放卷辊和收卷辊之间还包括放卷导向轮和收卷导向轮；所述多个主辊和多个靶材设置在所述放卷导向轮和所述收卷导向轮之间。6.一种镀膜方法，其特征在于，采用如权利要求1‑5任一项所述卷对卷镀膜设备进行镀膜。2CN115852321A说明书1/3页一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法技术领域[0001]本申请涉及基材镀膜技术领域，特别是涉及一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法。背景技术[0002]现有的卷对卷镀膜采用单主辊轮承载柔性基材，通过主辊对基材提供支撑、控温及纠偏等功能。单主辊镀膜存在以下问题：[0003]1)单一主辊结构对膜层的拉力承载有较高的要求，一般适用于20um以上的柔性基材镀膜。但是对于超薄基材(一般厚度＜10um),单一主辊结构下极易产生基材拉升而造成膜层龟裂及脱落。[0004]2)单一主辊结构采用连续溅射的方式，一个主棍对应基材的一个镀膜面。且连续沉积会造成一定的温度积累。而对于基材双面镀膜及对温度要求较低的镀膜，很难使用单一的主辊结构设备进行对应。发明内容[0005]基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法，以便解决现有设备对基材的较大拉伸力造成基材变形的问题、设备溅射过程中基材的温度积累的问题。[0006]一种卷对卷镀膜设备，包括：[0007]多个主辊和多个靶材；[0008]多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面；[0009]多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。[0010]进一步的，各个主辊内部包含预设温度的液体，各个主辊内部的液体的预设温度不尽相同。[0011]进一步的，各个主辊通过对应的步进电机进行转速控制。[0012]进一步的，设备还包括放卷辊和收卷辊，多个主辊和多个靶材设置在放卷辊和收卷辊之间。[0013]进一步的，放卷辊和收卷辊之间还包括放卷导向轮和收卷导向轮，多个主辊和多个靶材设置在放卷导向轮和收卷导向轮之间。[0014]一种采用所述卷对卷镀膜设备进行镀膜的方法。[0015]上述一种卷对卷镀膜设备，包括多个主辊和多个靶材，其中多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面，多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。相比于现有的卷对卷镀膜设备，本发明相当于将圆形腔室拉长，不仅极大提高了设备的兼容性，还因为将单主辊结构的集中拉力形式分解为多个小的拉力，大大降低了对基材的局部拉力，避免了超薄基材的形变；此外，由于靶材和主辊的交替设置，实现直接在同一个腔室中对基材的正反面同时镀膜，同时将单主辊的连续镀膜变成多主辊和多靶材的间隔镀膜，避免了镀膜时基材的温度积累，实现了低/常温镀