环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115873214A(43)申请公布日2023.03.31(21)申请号202210930041.5(22)申请日2022.08.03(30)优先权数据2021-1274112021.08.03JP(71)申请人DIC株式会社地址日本东京都(72)发明人今田知之今井裕佳理长田裕仁伊部武史(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277专利代理师刘新宇李茂家(51)Int.Cl.C08G59/08(2006.01)G03F7/004(2006.01)权利要求书2页说明书17页附图1页(54)发明名称环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜(57)摘要本发明涉及环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜。提供能够抑制热处理时的低分子量成分的挥发及升华、能够制造可以表现高折射率、低消光系数及高耐蚀刻性的膜的环氧树脂。环氧树脂具有下述通式(1‑1)所示的重复单元，且两末端为下述通式(1‑2)所示的结构。CN115873214ACN115873214A权利要求书1/2页1.一种环氧树脂，其具有下述通式(1‑1)所示的重复单元，且两末端为下述通式(1‑2)所示的结构，所述通式(1‑1)及(1‑2)中，R11、R12、R13、R14及R15各自独立地为碳原子数1～6的亚烷基，R21为氢原子或碳原子数1～5的烷基，R22及R23各自独立地为碳原子数1～6的亚烷基，X1、X2及X3各自独立地为烷基、烷氧基、芳基、芳烷基或卤素原子，Y为＝O基，a、b及c各自独立地为0～5的整数。2.根据权利要求1所述的环氧树脂，其中，所述通式(1‑2)所示的结构为下述通式(1‑3)所示的结构，所述通式(1‑3)中，R13、R14、R15、R22、R23及R24与所述通式(1‑2)相同。3.一种环氧树脂，其将二羟基萘树脂和环氧卤丙烷作为反应成分，所述二羟基萘树脂为使二羟基萘化合物与醛化合物在碱催化剂存在下反应而得的二羟基萘树脂，相对于所述二羟基萘化合物1摩尔，使用所述碱催化剂0.9～5摩尔。2CN115873214A权利要求书2/2页4.根据权利要求3所述的环氧树脂，其中，相对于所述二羟基萘化合物1摩尔，使用所述醛化合物0.5～4摩尔。5.根据权利要求1～4中任一项所述的环氧树脂，其重均分子量为500～5000。6.一种环氧组合物，其含有权利要求1～5中任一项所述的环氧树脂及下述通式(2)所示的环氧化合物，所述通式(2)中，R14、R15、R16及R17各自独立地为碳原子数1～6的亚烷基，R22、R23、R24及R25各自独立地为碳原子数1～6的亚烷基，X2、X3及X4各自独立地为烷基、烷氧基、芳基、芳烷基或卤素原子，Y为＝O基，b、c及d各自独立地为0～5的整数。7.一种感光性树脂组合物，其含有：权利要求1～5中任一项所述的环氧树脂或权利要求6所述的环氧组合物；及光敏剂。8.一种抗蚀膜，其使用权利要求7所述的感光性树脂组合物。9.一种固化性组合物，其含有：权利要求1～5中任一项所述的环氧树脂或权利要求6所述的环氧组合物；及固化剂。10.一种固化膜，其为权利要求9所述的固化性组合物的固化膜。3CN115873214A说明书1/17页环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜技术领域[0001]本发明涉及环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜。背景技术[0002]近年，随着LSI的高集成化和高速度化，其图案加工要求进一步的微细化，使用ArF准分子激光光(193nm)的光刻中，通过工艺材料的光学特性的利用、工艺设备的改良，超过了源自光源的波长的本质的分辨率极限。[0003]光致抗蚀剂的领域中，开发了各种用于形成更微细的布线图案的方法，其中之一有多层抗蚀剂法。多层抗蚀剂法中，在基板上形成1层或多层下层膜等，在其上基于通常的光刻形成抗蚀剂图案后，通过干蚀刻向基板加工转印布线图案。[0004]多层抗蚀剂法中重要的构件之一为下层膜。作为对下层膜所要求的特性，要求成膜性、高耐干蚀刻性、高折射率、低消光系数等。作为满足该要求的下层膜用材料，提出了芳香族环浓度高的酚醛清漆树脂(例如专利文献1)，此外还提出了使用阳离子聚合性化合物和光聚合引发剂的下层膜的制造方法(专利文献2)。[0005]现有技术文献[0006]专利文献[0007]专利文献1：日本特开2016‑206676号公报[0008]专利文献2：国际公开2006/115044号发明内容[0009]发明要解决的问题[0010]下层膜的材料中使用专利文献1的酚醛树脂的情况下，在基板上形成下层膜时，通常在170～200℃的高温下进行热处理，但此时有下层膜材料中包含的低分子量成分挥发或升华