一种CF制程负性光刻胶返工液及其制备方法和应用.pdf
书生****12
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
一种CF制程负性光刻胶返工液及其制备方法和应用.pdf
本发明提出了一种CF制程负性光刻胶返工液及其制备方法和应用,其中返工液包括无机碱、有机碱、小分子有机胺、有机溶剂、缓蚀剂和水,所述有机碱为1,8?二氮杂环[5,4,0]十一烯?7。本发明返工液具有较高的剥离性能和剥离效率,1?2min即可将光刻胶剥离完全,而且剥离光刻胶后的剥离基板表面光滑,平整度高,不影响薄利基板的反复使用。
一种ITO返工蚀刻液及其制备方法.pdf
本发明涉及一种ITO返工蚀刻液及其制备方法,该蚀刻液由三氯化铁、硫酸、添加剂、表面活性剂和纯水组成,其中添加剂为硫脲及其衍生物或咪唑啉衍生物,表面活性剂为直链烷基苯磺酸钠盐、铵盐或乙醇胺盐阴离子表面活性剂。其制备方法如下:按比例将三氯化铁溶解于高纯水,并添加到混合釜中,然后依次加入硫酸、添加剂及表面活性剂,搅拌循环后进行微滤,得到该配方产品。该蚀刻液成分性能稳定,蚀刻速率快,能很快去除基板制程表面铟锡氧化物(ITO)膜层,添加的添加剂有效的保护下层制程(金属)膜层不被腐蚀,添加的表面活性剂有效的提高蚀刻液
一种负性光刻胶显影液及其制备方法.pdf
一种负性光刻胶显影液及其制备方法。所述负性光刻胶显影液包括:无机碱、有机碱、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、缓冲盐和水,其中所述表面活性剂为式I所示化合物。所述制备方法制备简单,有利于产业化生产。
一种ITO镀膜返工处理蚀刻液及其制备方法.pdf
本发明属于TFT‑LCD减薄镀膜领域,本发明公开了一种ITO镀膜返工处理蚀刻液及其制备方法。ITO镀膜返工处理蚀刻液,由盐酸、草酸、有机多元磷酸、碘酸和纯水五种原料混合均匀而成;该ITO镀膜返工处理蚀刻液制备工艺,包括将强酸性阳离子交换树脂加入到盐酸中,搅拌混合,然后滤出强酸性阳离子交换树脂,控制或去除盐酸中的杂质离子;将草酸晶体、部分纯水、盐酸、有机多元磷酸、碘酸、剩余纯水,最后过滤制得ITO镀膜返工处理蚀刻液;有益效果:本发明的蚀刻液对ITO层的浸润性好,保证TFT‑LCD上的ITO能够完全蚀刻,从而
一种烧伤液及其制备方法和应用.pdf
本发明公开了一种烧伤液及其制备方法和应用,由山银花,莲翘,栀子,虎杖,紫草,黄芩,冰片,薄荷脑制备而成,其制备方法包括以下步骤:(1)先将前六种中药混合,用纯菜子油浸泡,提取过滤。(2)将滤液冷却,加入冰片和薄荷脑溶解后,过滤。(3)分装,消毒并去火毒,制得烧伤液。本发明中的烧伤液具有清热解毒,收敛生肌,杀虫止痒等作用,对治疗烧烫伤,湿疹,褥疮具有良好的效果。