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本发明提出了一种CF制程负性光刻胶返工液及其制备方法和应用,其中返工液包括无机碱、有机碱、小分子有机胺、有机溶剂、缓蚀剂和水,所述有机碱为1,8?二氮杂环[5,4,0]十一烯?7。本发明返工液具有较高的剥离性能和剥离效率,1?2min即可将光刻胶剥离完全,而且剥离光刻胶后的剥离基板表面光滑,平整度高,不影响薄利基板的反复使用。