声波器件及其制造方法.pdf
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声波器件及其制造方法.pdf
本申请提供声波器件及其制造方法,其中,声波器件包括多个体声波谐振结构,每个体声波谐振结构,包括:衬底;依次层叠于所述衬底上的反射结构、第一电极层、压电层和第二电极层;多个凸块,均位于所述压电层上且围绕所述第二电极层周向布置;所述凸块与所述第二电极层具有预设距离,所述预设距离取决于所述体声波谐振结构与其它体声波谐振结构的连接方式。
一种集成化声波器件及其制造方法.pdf
本发明公开了一种集成化声波器件及其制造方法,方法包括:S1:制备含有作为第一谐振器第一基底及位于第一基底上方的第二谐振器第二基底的复合基板,并去除部分第二基底形成用于制备第一谐振器的第一制备区;S2:在复合基板的第一制备区制备三明治结构,在复合基板的第二制备区制备叉指结构,叉指结构与复合基板形成第二谐振器;S3:在复合基板的上方第一制备区及第二制备区覆盖临时保护层,去除复合基板第一制备区背面的第一基底以制备空腔,所述空腔尺寸小于三明治结构的尺寸;S4:去除所述临时保护层,形成第一谐振器。本发明通过在复合基
器件芯片及其制造方法、封装结构及其制造方法.pdf
本发明提供了一种器件芯片,该器件芯片包括:衬底结构,该衬底结构的底部形成有至少一个导热孔结构,每一所述导热孔结构均包括形成在所述衬底结构底部的第一盲孔以及填充在该第一盲孔内的第一导热材料;至少一个器件单元,该至少一个器件单元形成在所述衬底结构上。相应地,本发明还提供了一种器件芯片的制造方法、以及基于该器件芯片所形成的封装结构及其制造方法。本发明有利于提高封装结构的散热性能。
闪存器件及其制造方法.pdf
本发明提供一种闪存器件及其制造方法,提供衬底,衬底上形成有第一、二存储单元结构,第一、二存储单元结构控制栅多晶硅层、硬掩膜层的侧壁上,形成有第一、二层间介质层,两相近一侧的第二层间介质层、浮栅多晶硅层上均形成有隧穿氧化层,隧穿氧化层上形成有字线多晶硅;研磨字线多晶硅至控制栅多晶硅的上方;刻蚀去除第一、二存储单元结构的两侧部分结构;刻蚀去除剩余的硬掩膜层,使得其下方的字线多晶硅、控制栅多晶硅层裸露;在裸露的字线多晶硅、控制栅多晶硅上均形成金属硅化物。本发明通过研磨将存储单元结构高度做低,通刻蚀去除控制栅上残
VDMOS器件及其制造方法.pdf
本发明提供一种VDMOS器件及其制造方法,所述器件包括结构相同的元胞单元;各元胞单元构成元胞水平结构;所述元胞水平结构,包括:若干个并列的源区,和围绕各所述源区的栅极区;各所述栅极区于延伸方向上交汇重叠形成栅极交汇区,其余的形成栅极非交汇区;于所述栅极交汇区设有分隔区;于所述元胞单元对应所述栅极非交汇区设有JFET区;于所述元胞单元对应所述分隔区设有JFET隔断区;所述JFET隔断区处不同导电类型的掺杂离子浓度差大于所述JFET区处浓度差,使栅极交汇区于斜线方向上的耗尽层易于扩展,从而耗尽层更易于接触和融