一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106011767A(43)申请公布日2016.10.12(21)申请号201610610981.0(22)申请日2016.07.29(71)申请人江苏宇天港玻新材料有限公司地址223100江苏省淮安市洪泽县经济开发区北三道8号(72)发明人王进东(74)专利代理机构北京君华知识产权代理事务所(普通合伙)11515代理人李海峰(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶(57)摘要本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶,包括旋转镍铬靶管体，固定卡扣，旋转轴，电机，电机控制单元，支撑架；所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定，所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连，所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。本发明的靶材利用率高，溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。CN106011767ACN106011767A权利要求书1/1页1.一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，包括旋转镍铬靶管体（1），固定卡扣，旋转轴，电机（4），电机控制单元，支撑架（5）；所述旋转镍铬靶管体（1）两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体（1）相对固定，所述旋转镍铬靶管体（1）一端的所述旋转轴（31）与所述支撑架（5）相连，所述旋转镍铬靶管体（1）另一端的所述旋转轴（32）与所述电机（4）相连。2.一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，所述旋转镍铬靶管体（1）与所述支撑架（5）相连处设有固定卡扣（21），所述旋转镍铬靶管体（1）与所述电机（4）相连处设有固定卡扣（22）。3.一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，所述电机控制单元可控制所述旋转轴的转速。4.一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，所述固定卡扣可安装拆卸。2CN106011767A说明书1/2页一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶技术领域[0001]本发明涉及磁控溅射领域，尤其涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶。背景技术[0002]溅射镀膜工艺广泛应用于集成电路、磁记录、平面显示器等领域。随着表面镀膜技术的不断发展，溅射靶材这一具有高附加值的功能材料的需求量也逐年增多。现有镍铬靶材一般为平面矩形靶材，缺点在于该平面溅射靶材的利用效率较低，靶材的消耗大，生产成本高。发明内容[0003]本发明要解决的技术问题是设计一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，解决现有的平面靶材利用效率较低，靶材的消耗大，生产成本高的技术问题。[0004]本发明解决其技术问题的技术方案为：一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，包括旋转镍铬靶管体，固定卡扣，旋转轴，电机，电机控制单元，支撑架；所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定，所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连，所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。[0005]所述旋转镍铬靶管体与所述支撑架相连处设有固定卡扣，所述旋转镍铬靶管体与所述电机相连处设有固定卡扣。[0006]所述电机控制单元可控制所述旋转轴的转速。[0007]所述固定卡扣可安装拆卸。[0008]本发明的有益效果在于，靶材利用率高，溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。附图说明[0009]下面结合附图对本发明的具体实施方式做进一步阐明。[0010]图1为：一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶的结构主视图。具体实施方式[0011]结合图1本发明的一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶的结构主视图，对本发明作出进一步的详细说明。[0012]一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，包括旋转镍铬靶管体1，固定卡扣，旋转轴，电机4，电机控制单元，支撑架5；旋转镍铬靶管体1两端分别连有两个旋转轴，旋转轴通过固定卡扣配合与旋转镍铬靶管体1相对固定，旋转镍铬靶管体1一端的旋转轴31与支撑架5相连，旋转镍铬靶管体1另一端的旋转轴32与电机4相连。[0013]旋转镍铬靶管体1与支撑架5相连处设有固定卡扣21，旋转镍铬靶管体1与电机4相3CN106011767A说明书2/2页连处设有固定卡扣22。[0014]旋转镍铬靶管体1的两端开口，固定卡扣设在旋转镍铬靶管体1的两端，旋转轴通过固定卡扣配合使旋转镍铬靶管体1、固定卡扣和旋转轴三者相对固定。旋转镍铬靶管体1一端的固定卡扣21及旋转轴31与支撑架5相连，支撑架5上设有轴承可让旋转轴31自由旋转。旋转镍铬靶管体1另一端的旋转轴32与电机