基板保持装置、曝光装置以及物品制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115903402A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202310086053.9H01L21/027(2006.01)(22)申请日2019.05.27H01L21/687(2006.01)B23H7/04(2006.01)(30)优先权数据B23H7/10(2006.01)2018-1038962018.05.30JP2019-0482372019.03.15JP(62)分案原申请数据201910443206.42019.05.27(71)申请人佳能株式会社地址日本东京(72)发明人坂田峻也高桥彰宏大阪昇(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司11038专利代理师汪晶晶(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权利要求书1页说明书9页附图15页(54)发明名称基板保持装置、曝光装置以及物品制造方法(57)摘要本申请涉及基板保持装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种基板保持装置以及包括该基板保持装置的曝光装置，该基板保持装置包括设置有间隙的基座和部署在间隙中并且被配置为将已经透过基板的光向基板侧反射的反射构件。CN115903402ACN115903402A权利要求书1/1页1.一种曝光装置，用于通过使用曝光光将原稿板的图案转印到基板上，所述装置包括:基座，被配置为保持基板；基板输送构件，被配置为输送所述基板以使所述基板被部署在所述基座的上表面上，并且通过在输送后被降低而被部署在提供给所述基座的间隙中；以及反射构件，部署在所述基板与部署在所述间隙中的所述基板输送构件之间；其中，所述反射构件对透过所述基板的光的反射率高于所述基座对透过所述基板的光的反射率。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中所述曝光装置在所述基板输送构件被部署在所述间隙中的状态下对所述基板进行曝光。3.如权利要求1所述的曝光装置，其中所述基座包括用于保持所述基板的多个基板保持部分，以及所述基板输送构件具有被部署以便叠在所述多个基板保持部分之间的各个间隙上的形状。4.如权利要求1所述的曝光装置，其中反射构件对透过基板的光的漫反射率高于基座对透过基板的光的漫反射率。5.如权利要求1所述的曝光装置，其中反射构件对已经透过基板的光的规则反射率高于基座对已经透过基板的光的规则反射率。6.如权利要求1所述的曝光装置，其中抗蚀剂被施加在基板上，以及其中反射构件被部署，以减少由基座反射并到达基座上方的第一抗蚀剂区域的光量与由反射构件反射并到达反射构件上方的第二抗蚀剂区域的光量之间的差异。7.一种物品制造方法，包括：通过使用曝光装置将基板暴露于光，所述曝光装置用于通过使用曝光光将原稿板的图案转印到基板上；以及显影经曝光的基板，其中曝光装置包括：基座，被配置为保持基板；基板输送构件，被配置为输送所述基板以使所述基板被部署在所述基座的上表面上，并且通过在输送后被降低而被部署在提供给所述基座的间隙中；以及反射构件，部署在所述基板与部署在所述间隙中的所述基板输送构件之间；其中，所述反射构件对透过所述基板的光的反射率高于所述基座对透过所述基板的光的反射率。2CN115903402A说明书1/9页基板保持装置、曝光装置以及物品制造方法[0001]本申请是申请日为2019年5月27日、申请号为201910443206.4、发明名称为“基板保持装置、曝光装置以及物品制造方法”的发明专利申请的分案申请。技术领域[0002]本公开涉及基板保持装置、曝光装置和物品制造方法。背景技术[0003]当通过使用光刻技术制造诸如半导体器件和液晶显示元件之类的器件时，使用曝光装置。曝光装置经由投影光学系统将掩模图案投影在基板上，以转印图案。[0004]器件制造处理包括将抗蚀剂施加到基板的处理、通过将抗蚀剂暴露于光而将图案转印到基板上的处理以及对图案转印到上面的基板进行显影的处理。一般而言，将抗蚀剂施加到基板的处理和对图案转印到上面的基板进行显影的处理是通过涂布机显影器执行的，涂布机显影器不同于通过将抗蚀剂暴露于光而将图案转印到基板上的曝光装置。[0005]在器件制造处理中，以这种方式，在不同装置之间递送基板的同时制造器件。每个装置设置有基板保持机构，用于通过吸收来保持基板以递送基板。基板保持机构通常包括用于保持基板的基座和用于升高和降低基板的诸如升降销(liftpin)之类的基板升降机构。[0006]在部署在基板下方的基板升降机构和基座之间产生间隙。因此，在基板上产生了部署基座和基板升降机构的区域以及没有部署它们中任一个的区域。[0007]如今，通常通过使用透明基板来制造器件，曝光光透过该透明基板。当透明基板暴露于光时，透过基板的曝光光被基座或基板升降机构反射，并且施加到基板的抗蚀剂暴露于反射光。当设置