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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115917299A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202180044962.5(74)专利代理机构北京聿宏知识产权代理有限(22)申请日2021.05.31公司11372专利代理师吴大建赵子翔(30)优先权数据2020-1127012020.06.30JP(51)Int.Cl.G01N21/88(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2022.12.23(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/0206612021.05.31(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/004232JA2022.01.06(71)申请人株式会社维纳科斯地址日本香川县(72)发明人香川幸大岩崎修权利要求书4页说明书17页附图42页(54)发明名称异物/缺陷检查装置、异物/缺陷检查中的图像生成装置以及异物/缺陷检查方法(57)摘要由受光元件阵列(光电二极管阵列)的至少一个受光元件构成的一像素单位与光源一对一地对应,仅在光源发光时,由与该光源对应的至少一个受光元件(一像素单位)检测光束。因此,被准直或进一步大致聚光的仅一根光束射入到检查对象物中的“异物/缺陷”,受光元件仅能够分离并检测被散射的光,因此即使是具有光散射性且具有厚度的检查对象,也能够以良好的S/N(串扰极少)检测“异物/缺陷”。CN115917299ACN115917299A权利要求书1/4页1.一种异物/缺陷检查装置,其特征在于,所述异物/缺陷检查装置具备:照明光学系统,其包含光扫描单元,该光扫描单元扫描对从一个光源或呈线状地分隔排列的多个光源向具有光散射性的检查对象物中的至少一个以上的检查面射出的光进行准直而得到的光束、或对准直后的光束进一步进行大致聚光而得到的光束;受光光学系统,其以所述光源和由至少一个受光元件构成的一像素单位一对一地对应的方式与所述照明光学系统的扫描方向平行地配置,该受光光学系统包含多个受光元件,透射所述检查对象物的检查面后的所述光束照射到位于该检查对象物的异物或缺陷,所述多个受光元件接收来自该异物或缺陷的散射光、扩散光、或者被吸收/扩散反射、被透射扩散的具有强弱的光;以及检测单元,其仅利用对应的受光元件检测来自所述照明光学系统的主扫描方向的任意位置处的所述光源的光束,由所述至少一个受光元件构成的一像素单位的空间分辨率为由检查对象物的检查面上的照明光学系统形成的所述光束的空间分辨率以上。2.一种异物/缺陷检查装置,其特征在于,所述异物/缺陷检查装置具备:照明光学系统,其包含光扫描单元,该光扫描单元扫描以对从一个光源或呈线状地分隔排列的多个光源向具有光散射性的检查对象物中的至少一个以上的检查面射出的光进行收敛的方式进行调整而得到的光束、或以扩展的方式进行调整而得到的光束;受光光学系统,其以所述光源和由至少一个受光元件构成的一像素单位一对一地对应的方式与所述照明光学系统的扫描方向平行地配置,该受光光学系统包含多个受光元件,透射所述检查对象物的检查面后的所述光束照射到位于该检查对象物的异物或缺陷,所述多个受光元件接收来自该异物或缺陷的散射光、扩散光、或者被吸收/扩散反射、被透射扩散的具有强弱的光;以及检测单元,其仅利用对应的受光元件检测来自所述照明光学系统的主扫描方向的任意位置处的所述光源的光束,由所述至少一个受光元件构成的一像素单位的空间分辨率为由检查对象物的检查面上的照明光学系统形成的所述光束的空间分辨率以上。3.根据权利要求1或2所述的异物/缺陷检查装置,其特征在于,所述照明光学系统的所述光束的扫描间隔为由沿主扫描方向排列的至少一个受光元件构成的像素单位的空间分辨率以下。4.根据权利要求1所述的异物/缺陷检查装置,其特征在于,所述准直后的光束或对准直后的光束进一步进行大致聚光而得到的光束的尺寸为10μm以上且1000μm以下,所述受光元件的尺寸满足200dpi以上。5.根据权利要求1~4中任一项所述的异物/缺陷检查装置,其特征在于,检查对象物是具有透射从所述光源射出的光的性质的介质。6.根据权利要求1~4中任一项所述的异物/缺陷检查装置,其特征在于,检查对象物是具有反射从所述光源射出的光的性质的介质。7.根据权利要求1~6中任一项所述的异物/缺陷检查装置,其特征在于,所述受光光学系统具有使透射检查对象物的检查面后的光在所述受光元件上成像的透镜系统。2CN115917299A权利要求书2/4页8.根据权利要求1~7中任一项所述的异物/缺陷检查装置,其特征在于,所述检测单元与所述照明光学系统中的所述光束的扫描同步地,仅对所述多个受光元件中的各扫描位置处的所述光束的中心部附近的受光元件进行信号输出。9.根据权利要求1~8中任一项所述的异物/缺陷检查装置,其特