一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113667927A(43)申请公布日2021.11.19(21)申请号202110955819.3(22)申请日2021.08.19(71)申请人江苏乐萌精密科技有限公司地址213129江苏省常州市新北区孟河镇政泰路288号(72)发明人潘燕萍熊超(74)专利代理机构常州西创专利代理事务所(普通合伙)32472代理人张磊(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)H01L51/56(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺(57)摘要本发明公开了一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺，属于掩模版制作领域。本发明的共通金属掩膜版制作工艺，利用聚酰亚胺膜层在金属掩模网片材的共通层开口处形成用于遮挡屏下摄像区中无像素区域的遮挡区和用于支撑遮挡区的支撑网格，在蒸镀过程中能够有效去除屏下摄像区的有机材料和阴极材料，从而真正做到屏下摄像区的高穿透率，保证了屏下摄像显示屏的摄像效果，无需改变有机材料的特性，降低了屏下摄像显示屏的制作成本；另外，该共通金属掩膜版制作工艺简单易行，聚酰亚胺遮挡区和支撑网格的厚度薄、强度高，支撑网格细丝宽度和厚度均可达到微米级别，制作精度高，且不易断裂，使共通金属掩膜版使用寿命长，真空蒸镀精度高。CN113667927ACN113667927A权利要求书1/1页1.一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺，其特征在于，包含以下步骤：S1、制作金属掩模网片材(2)；S2、在金属掩模网片材(2)的一面涂布液态的聚酰亚胺材料，烘干后在金属掩模网片材(2)的一面形成聚酰亚胺膜层(3)；S3、在带有聚酰亚胺膜层(3)的掩模网片材(2)的两面分别涂布光敏材料，在掩模网片材(2)的外侧面形成第一光阻层(4)，在聚酰亚胺膜层(3)的外侧面形成第二光阻层(5)；S4、对第一光阻层(4)进行曝光和显影，通过蚀刻工艺在掩模网片材(2)上形成共通层开口(6)；并将掩模网片材(2)外侧面残留的第一光阻层(4)去除；S5、根据屏下摄像区(9)的子像素分布，对第二光阻层(5)进行曝光和显影，通过蚀刻工艺在聚酰亚胺膜层(3)上形成与屏幕子像素相对应的细密开口(7)，在与共通层开口(6)相对的聚酰亚胺膜层(3)上形成用于遮挡屏下摄像区(9)中无像素区域的遮挡区(3‑1)和用于支撑遮挡区(3‑1)的支撑网格(3‑2)，所述的支撑网格(3‑2)分布于正常显示区(8)的各个子像素之间；并将聚酰亚胺膜层(3)外侧面残留的第二光阻层(5)去除。2.根据权利要求1所述的一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺，其特征在于：在步骤S1中，所述的掩模网片材(2)由金属卷材(1)裁切而成。3.根据权利要求1所述的一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺，其特征在于：在步骤S2中，所述的聚酰亚胺膜层(3)的厚度≤20μm。4.根据权利要求3所述的一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺，其特征在于：在步骤S5中，所述的支撑网格(3‑2)的细丝宽度≤20μm。5.一种权利要求1或2所述的制作工艺制备的共通金属掩膜版，其特征在于：包括掩模网片材(2)，所述的掩模网片材(2)上设有若干共通层开口(6)，所述的掩模网片材(2)的一面设有覆盖在共通层开口(6)上的聚酰亚胺膜层(3)，所述的聚酰亚胺膜层(3)上设有若干与屏幕子像素相对应的细密开口(7)，使聚酰亚胺膜层(3)上形成用于遮挡屏下摄像区(9)中无像素区域的遮挡区(3‑1)和用于支撑遮挡区(3‑1)的支撑网格(3‑2)。6.根据权利要求5所述的一种共通金属掩膜版，其特征在于：所述的聚酰亚胺膜层(3)的厚度≤20μm。7.根据权利要求6所述的一种共通金属掩膜版，其特征在于：所述的支撑网格(3‑2)的细丝宽度≤20μm。2CN113667927A说明书1/6页一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺技术领域[0001]本发明涉及一种金属掩膜版及其制作工艺，更具体地说，涉及一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺。背景技术[0002]AMOLED(主动式有机发光显示器)被称为下一代显示技术，目前已在穿戴、手机、平板电脑和笔记本等众多领域逐步使用。并随着技术的成熟和良率的提升，占有份额越来越高，具有逐步取代a‑Si及LTPS显示器的趋势。[0003]AMOLED现在主流的生产方式为真空蒸镀，需要在基板上真空蒸镀各种功能层、发光层等，其中金属掩膜版作为真空蒸镀不可或缺的治具，也越来越受到市场的关注，其中分为共同金属掩膜版(CMM)和精细金属掩膜版(FMM)，