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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112071840A(43)申请公布日2020.12.11(21)申请号202010406133.4(22)申请日2020.05.14(30)优先权数据10-2019-00688052019.06.11KR(71)申请人三星电子株式会社地址韩国京畿道(72)发明人姜埈求李炫锡赵基熙安相赫(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人屈玉华(51)Int.Cl.H01L27/108(2006.01)权利要求书3页说明书15页附图40页(54)发明名称集成电路器件及其制造方法(57)摘要本公开提供了一种集成电路器件及其制造方法。该集成电路器件包括电容器结构,其中电容器结构包括:在基板之上的底电极;在底电极的侧壁上的支撑物;在底电极和支撑物上的电介质层;以及在电介质层上并覆盖底电极的顶电极。底电极包括:基底电极层,在基板之上并在垂直于基板的顶表面的第一方向上延伸;以及导电覆盖层,包括铌氮化物,在基底电极层的侧壁与电介质层之间以及在基底电极层的顶表面与电介质层之间。CN112071840ACN112071840A权利要求书1/3页1.一种包括电容器结构的集成电路器件,其中所述电容器结构包括:在基板之上的底电极;在所述底电极的侧壁上的支撑物;在所述底电极和所述支撑物上的电介质层;以及在所述电介质层上并覆盖所述底电极的顶电极,并且其中所述底电极包括:基底电极层,在所述基板之上并在垂直于所述基板的顶表面的第一方向上延伸;以及包括铌氮化物的导电覆盖层,在所述基底电极层的侧壁与所述电介质层之间以及在所述基底电极层的顶表面与所述电介质层之间。2.根据权利要求1所述的集成电路器件,其中所述基底电极层包括钛氮化物或钨,并且其中所述电介质层的与所述导电覆盖层接触的部分包括具有四方晶相的铪氧化物。3.根据权利要求1所述的集成电路器件,其中所述基底电极层与所述电介质层隔离。4.根据权利要求1所述的集成电路器件,其中所述基底电极层包括第一侧壁和第二侧壁,其中所述第一侧壁被所述支撑物围绕,并且其中所述第二侧壁被所述导电覆盖层围绕。5.根据权利要求4所述的集成电路器件,其中所述基底电极层的所述第一侧壁和所述第二侧壁是共平面的。6.根据权利要求4所述的集成电路器件,其中所述基底电极层的所述第二侧壁相对于所述基底电极层的所述第一侧壁向内凹陷。7.一种包括电容器结构的集成电路器件,其中所述电容器结构包括:在基板之上的底电极;在所述底电极的侧壁上的支撑物;在所述底电极和所述支撑物上的电介质层;以及在所述电介质层上并覆盖所述底电极的顶电极,其中所述底电极包括:基底电极层,包括铌氮化物并在垂直于所述基板的顶表面的第一方向上延伸;和第一籽晶层,被所述支撑物围绕并与所述基底电极层的至少一部分接触。8.根据权利要求7所述的集成电路器件,其中所述底电极还包括在所述基底电极层的底表面与所述基板之间的第二籽晶层,并且其中所述第一籽晶层和所述第二籽晶层中的每个包括钛氮化物或钨。9.根据权利要求8所述的集成电路器件,其中所述基底电极层包括第一侧壁和第二侧壁,其中所述基底电极层的所述第一侧壁被所述第一籽晶层围绕,并且其中所述基底电极层的所述第二侧壁被所述电介质层围绕。10.根据权利要求9所述的集成电路器件,其中所述基底电极层的所述第一侧壁和所述第二侧壁是共平面的。11.根据权利要求9所述的集成电路器件,其中所述基底电极层与所述支撑物隔离,并且其中所述第一籽晶层在所述基底电极层的所述第一侧壁与所述支撑物的侧壁之间。12.根据权利要求7所述的集成电路器件,其中所述基底电极层包括:第一基底电极层;和第二基底电极层,在所述第一基底电极层之上并在所述第一方向上与所述第一基底电极层间隔开,2CN112071840A权利要求书2/3页其中所述第一籽晶层在所述第一基底电极层和所述第二基底电极层之间;其中第二籽晶层在所述第二基底电极层的侧壁上并被所述支撑物围绕,并且其中所述第一籽晶层和所述第二籽晶层中的每个包括钛氮化物或钨。13.根据权利要求12所述的集成电路器件,其中所述第二基底电极层包括第一侧壁和第二侧壁,其中所述第一基底电极层包括第三侧壁,其中所述第二基底电极层的所述第一侧壁被所述第一籽晶层围绕,并且其中所述第二基底电极层的所述第二侧壁和所述第一基底电极层的所述第三侧壁被所述电介质层围绕。14.根据权利要求13所述的集成电路器件,其中所述第二基底电极层的所述第一侧壁和所述第二侧壁是共平面的,并且其中所述第二基底电极层的所述第一侧壁相对于所述第一基底电极层的所述第三侧壁向内凹陷。15.根据权利要求13所述的集成电路器件,其中所述第一基底电极层和所述第二基底电极层与所述支撑物隔离,并且其中所述第一籽晶层在所述第二基底电极