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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115939279A(43)申请公布日2023.04.07(21)申请号202211468152.5(22)申请日2022.11.22(71)申请人福建兆元光电有限公司地址350000福建省福州市闽侯县南屿镇生物医药和机电产业园区(72)发明人马昆旺吴永胜刘恒山(74)专利代理机构福州市博深专利事务所(普通合伙)35214专利代理师唐燕玲(51)Int.Cl.H01L33/38(2010.01)H01L33/00(2010.01)权利要求书2页说明书7页附图3页(54)发明名称一种LED芯片结构及其制备方法(57)摘要本发明公开一种LED芯片结构制备方法,在蓝宝石衬底上依次形成N‑GaN层、量子阱层和P‑GaN层,形成外延片;对所述外延片进行切割,得到切割后的外延片;在所述切割后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁制备N电极,并在所述P‑GaN层的侧壁制备P电极,得到制备完成的LED芯片;LED芯片结构,包括外延片;所述外延片包括N‑GaN层和设于所述N‑GaN层一侧的P‑GaN层;所述N‑GaN层的一侧壁设有N电极,所述P‑GaN层的一侧壁设有P电极,且所述N‑GaN层的一侧壁和所述P‑GaN层的一侧壁不处于同一平面;使得电极不再占用发光区面积,以此避免了发光区面积的损失,最大程度地利用发光面积,从而有效提高了出光效率,进而提高了LED芯片的亮度。CN115939279ACN115939279A权利要求书1/2页1.一种LED芯片结构制备方法,其特征在于,包括步骤:在蓝宝石衬底上依次形成N‑GaN层、量子阱层和P‑GaN层,形成外延片;对所述外延片进行切割,得到切割后的外延片;在所述切割后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁制备N电极,并在所述P‑GaN层的侧壁制备P电极,得到制备完成的LED芯片。2.根据权利要求1所述的一种LED芯片结构制备方法,其特征在于,所述在所述切割后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁制备N电极,并在所述P‑GaN层的侧壁制备P电极,得到制备完成的LED芯片包括:使用光刻胶掩膜在所述切割后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁制备N电极图形,并在所述P‑GaN层的侧壁制备P电极图形,得到电极图形制备后的外延片;使用光刻胶掩膜和粗化液对所述电极图形制备后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁和所述P‑GaN层的侧壁进行粗化,得到粗化后的外延片;使用湿法腐蚀方法去除所述粗化后的外延片上的所述光刻胶掩膜,得到去除后的外延片,并基于所述去除后的外延片制备N电极和P电极,得到制备完成的LED芯片。3.根据权利要求2所述的一种LED芯片结构制备方法,其特征在于,所述使用光刻胶掩膜和粗化液对所述电极图形制备后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁和所述P‑GaN层的侧壁进行粗化,得到粗化后的外延片包括:使用光刻胶掩膜和粗化液对所述电极图形制备后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁和所述P‑GaN层的侧壁进行15~45s的粗化,得到粗化后的外延片。4.根据权利要求2所述的一种LED芯片结构制备方法,其特征在于,所述使用光刻胶和粗化液对所述电极图形制备后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁和所述P‑GaN层的侧壁进行粗化,得到粗化后的外延片之后包括:在未制备所述N电极图形和P电极图形的所述电极图形制备后的外延片的侧壁上蒸镀ITO层,得到带有ITO层的外延片;所述使用湿法腐蚀方法去除所述粗化后的外延片上的所述光刻胶,得到去除后的外延片包括:使用湿法腐蚀方法去除所述带有ITO层的外延片上的所述光刻胶,得到去除后的外延片。5.根据权利要求4所述的一种LED芯片结构制备方法,其特征在于,所述在未制备所述N电极图形和P电极图形的所述电极图形制备后的外延片的侧壁上蒸镀ITO层,得到带有ITO层的外延片包括:使用电子回旋共振溅射法按照300~400℃的溅射温度在未制备所述N电极图形和P电极图形的所述电极图形制备后的外延片的侧壁上蒸镀厚度为的ITO层,得到带有ITO层的外延片。6.根据权利要求4所述的一种LED芯片结构制备方法,其特征在于,所述基于所述去除后的外延片制备N电极和P电极,得到制备完成的LED芯片包括:在所述去除后的外延片上对所述ITO层进行退火,形成带有欧姆接触层的外延片;在所述带有欧姆接触层的外延片的所述N‑GaN层的侧壁上蒸镀N电极,并在所述P‑GaN2CN115939279A权利要求书2/2页层的侧壁蒸镀P电极;使用光刻胶掩膜在所述带有欧姆接触层的外延片的所述ITO层上沉积二氧化硅层,并在沉积后使用湿法腐蚀方法去除所述光刻胶掩膜,露出所述N电极和所述P电极,得到制备完成的LED芯片。7.一种LED芯片结构,其特征在于,包括外延片;所述外延片包括N‑GaN层和设于所述N‑