一种LED芯片结构及其制备方法.pdf
俊凤****bb
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一种LED芯片结构及其制备方法.pdf
本发明公开一种LED芯片结构制备方法,在蓝宝石衬底上依次形成N‑GaN层、量子阱层和P‑GaN层,形成外延片;对所述外延片进行切割,得到切割后的外延片;在所述切割后的外延片上的所述N‑GaN层的侧壁制备N电极,并在所述P‑GaN层的侧壁制备P电极,得到制备完成的LED芯片;LED芯片结构,包括外延片;所述外延片包括N‑GaN层和设于所述N‑GaN层一侧的P‑GaN层;所述N‑GaN层的一侧壁设有N电极,所述P‑GaN层的一侧壁设有P电极,且所述N‑GaN层的一侧壁和所述P‑GaN层的一侧壁不处于同一平面;
一种LED外延结构及其制备方法、LED芯片.pdf
本发明提供了一种LED外延结构及其制备方法、LED芯片,其MQW层包括沿第一方向交替层叠生长的量子垒和量子阱,且所述量子垒包括若干组InGaN/GaN/AlGaN层,进一步地,所述量子垒的两接触面分别设有GaN层;通过InGaN/GaN/AlGaN层对电子产生多级散射,减小电子迁移速率,增加电子被MQW俘获的几率;同时,在InGaN/GaN/AlGaN的层与层之间形成反生长方向的极化电场(P→N),对空穴产生多级加速,对电子减速,增加空穴的注入效率,减少电子溢流,从而平衡载流子分布,增加辐射复合速率,提高
垂直LED芯片结构及其制备方法.pdf
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一种高亮度LED芯片结构及其制备方法.pdf
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一种LED芯片及其制备方法.pdf
本发明公开了一种LED芯片及其制备方法,在N型半导体层远离衬底的一面沉积绝缘层,且绝缘层围绕量子阱层、P型半导体层以及N电极设置,因此在PN分界处优先覆盖绝缘材料,能够在Mesa刻蚀之后ITO层溅射之前生成绝缘层,减少PN分界处因ITO导电物质产生的微漏电;并且通过设置绝缘层,相较于现有技术能够提高ITO层的面积,增加发光效率并提高芯片亮度,同时在应用端也能充分避免PN分界处的其他导电杂质驻留。