一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115928032A(43)申请公布日2023.04.07(21)申请号202211619364.9(22)申请日2022.12.15(71)申请人昆山东威科技股份有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市巴城镇东定路东侧(72)发明人刘建波(74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250专利代理师汤荞赫(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/56(2006.01)C23C14/54(2006.01)权利要求书4页说明书17页附图8页(54)发明名称一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备(57)摘要本发明公开了一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备，包括：壳本体、放卷机构、收卷机构、镀膜辊结构、屏蔽隔离装置、溅射阴极结构以及抽气结构。该新型设备能实现在超薄膜材上一次完成多层膜系正反两面的镀膜，解决了起皱、针孔、掉渣等质量缺陷，比传统镀膜机上完成双面镀要采用正反面先后镀的方式，生产周期短，生产效率高、成品率高。CN115928032ACN115928032A权利要求书1/4页1.一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，包括：壳本体；放卷机构和收卷机构，所述放卷机构用于将缠绕在其上的物料向外放卷，所述收卷机构适于将已镀膜的物料收卷；镀膜辊结构，设置在所述放卷机构和收卷机构之间，包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊在壳体本体内间隔设置、且二者在所述壳本体内反向转动，第一镀膜辊和第二镀膜辊适于导引物料传输，所述第一镀膜辊与物料的第一面贴合传动，所述第二镀膜辊适于与物料的第二面贴合传动；屏蔽隔离装置，包括若干隔板结构，所述隔板结构设置在所述壳本体内，所述隔板结构与所述壳本体围合形成有适于磁控溅射镀膜的镀膜腔以及用于转运镀膜基材的卷绕腔；溅射阴极结构，安装在所述壳本体内的镀膜腔内，任一所述镀膜腔对应配置有至少一个溅射阴极结构，所有所述溅射阴极结构沿对应配置的所述镀膜辊的中心线呈弧形分布设置，所述镀膜辊结构与所述溅射阴极结构间隔设置，所述溅射阴极结构的溅射端朝向相靠近的镀膜辊一侧设置；抽气结构，包括：至少一个抽气通道、驱动组件以及冷凝组件，其中，抽气通道与所述壳体的内腔连通设置，驱动组件安装在所述抽气通道上，所述冷凝组件安装在述壳体内，所述驱动件带动所述壳本体内腔的介质沿所述抽气通道流出的引流状态；所述冷凝组件用以对所述壳本体内腔的流出的介质进行冷凝。2.根据权利要求1中所述的双面磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，任一组所述溅射阴极结构包括相间隔设置的阴极单元和活性阳极，所述阴极单元对称安装在靠近所述镀膜辊结构的一侧；所述阴极单元包括旋转驱动件和圆柱阴极和圆柱靶材，所述旋转驱动件的安装端连接在所述壳本体上，所述圆柱阴极和靶材固定连接在所述旋转驱动件的驱动端；所述活性阳极上设有气路结构，所述气路结构与所述镀膜腔连通设置，所述气路结构用于导入反应气体；其中，所述反应气体为氩气。3.根据权利要求2中所述的双面磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，所述溅射阴极结构还包括直流电源件，所述直流电源件与阴极单元电性连接；所述溅射阴极结构还包括支撑座，所述支撑座安装在所述壳本体上；任一组所述溅射阴极结构包括第一阴极单元与第二阴极单元，所述第一阴极单元与所述第二阴极单元沿其对应的镀膜辊的中心线等距设置；任一所述镀膜辊对应配置有三组溅射阴极结构，所有所述溅射阴极结构对称安装在所述壳本体内。4.根据权利要求1中所述的双面磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，所述隔板结构包括若干固定构件和若干分隔构件，所述固定构件间隔分布设置在所述壳本体内腔壁面上；所述分隔构件设置在所述所述壳本体内、且与所述固定构件对应设置，所述分隔构件与所述固定构件远离所述壳本体的一端连接；其中，相邻的所述固定构件、分隔构件与壳本体共同围合形成所述镀膜腔以及所述卷绕腔；任一所述分隔构件括导热板、防着板以及冷却结构，所述防着板与所述导热板配置为可拆卸连接，所述防着板连接在所述导热板朝向所述镀膜腔的一侧，所述冷却结构设置在2CN115928032A权利要求书2/4页所述导热板的内腔中，以适于对所述导热板换热。5.根据权利要求4中所述的双面磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，所述导热板为板体结构，所述板体结构沿所述壳本体的长度方向延伸设置，所述冷却结构包括至少一个冷却通道，所述冷却通道穿设于所述板体结构中；或，所述导热板为夹层结构，所述冷却结构包括至少一个冷却通道，所述冷却通道安装在所述夹层结构中；或,导热板为铜板或铜合金板。6.根据权利要求5中所述的双面磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，屏蔽隔离装置还包括至少一个隔离架，适于安装镀膜棍，所述隔离架与所述导热板远离所述固定构件的一端可拆卸连接，所述